点击蓝字,关注我们昨日,美国EUV Tech公司发布一款用于光刻掩膜版缺陷检测的HVM级、极紫外波带片显微系统- AIRES®。相较于2020年交付的原型机,该系统的亮点是能满足大规模生产的需求[1]。众星快评:实现HVM的核心是有效的提高系统的检测速度,核心要素一是提高光源的亮度,二是提高光学系统的NA。 故做出如下大胆推测 光源层面DPP ☛ LPP (Sn Target) ☛ LPP (Li
2025-05-13 unistar
点击蓝字,关注我们日前,我们的合作伙伴捷克ADVACAM发布了最新的WidePIX 5×5 MPX3光子计数、像素X射线型探测器。该探测器具备超高动态范围与大成像面积,支持每秒170帧的高速图像采集,并实现极快的数据传输速率,适用于对轻质材料和生物组织进行无损成像。光子计数型探测器通过记录超过设定阈值的X射线光子数量,有效消除传感器及电子读出噪声,从而获得超高对比度和宽动态范围的X射线图像。这一技
2025-06-11 TU
点击蓝字,关注我们过去,芯片是电子器件的集合,而如今,一种以“光”为核心的全新芯片体系正加速成形。量子光子芯片,将光子作为信息载体,集成发光、调控、探测等功能单元,在纳米尺度上完成量子态的操控、传输与转换,成为连接量子计算、量子传感与量子通信的关键平台。这一领域正成为量子信息科学的核心研究热点,吸引了全球顶尖研究机构的投入。近期,三项发表在《Nature》《Nature Nanotechnolog
2025-06-11 TU
点击蓝字,关注我们The Lawrence Berkeley National Lab’s ( LBNL ) Atomic, Molecular and Optical Sciences (AMOS) group of the Chemical Sciences Division is seeking a Postdoctoral Researcher to explore the ultrafa
2025-05-13 unistar
点击蓝字 关注我们SUBSCRIBE US图1 德国 Jena Tower,象征着耶拿150多年的光学工业历史在之前的文章《隐藏在德国Jena的小巨人:optiX fab.》中,我们介绍了德国optiX fab.公司25年的发展历程及其背后的核心掌舵人Torsten Feigl博士。工欲善其事,必先利其器。对于超高精密、高质量极紫外光学镜片的生产,先进的镀膜机、膜层结构、反射率表征仪器和良好的实验
2025-05-13 unistar
点击蓝字 关注我们 会议介绍SPIE Advanced Lithography + Patterning 自1976年以来一直是半导体行业光刻和图案化领域的顶级会议。该会议为全球半导体技术和制造从业者提供了一个交流技术进展和展示产品的平台,重点关注工业应用。会议涵盖了半导体光刻和图案化的整个价值链,包括电路设计、材料、光刻和蚀刻工具、工艺、计算光刻、计量、测试和良率改进,以及新兴领域的图案化、人
2025-05-13 unistar
点击蓝字 关注我们关于ANL/APS美国阿贡国家实验室(Argonne National Laboratory,简称ANL)是美国政府最老和最大的科学与工程研究实验室之一 — 在美国中西部最大。阿贡是1946年特许成立的美国第一个国家实验室,也是美国能源部所属最大的研究中心之一。过去半个世纪中,芝加哥大学为美国能源部及其前身监管阿贡国家实验室的运行。 阿贡运行着世界水平的国家级科学研究装置,如先进
2025-05-13 unistar
点击蓝字 关注我们 >>>从伦琴到Fram2—手掌X光成像的传承及展望跨越一个多世纪的致敬 (a) (b)图1.上图左a为威廉·伦琴夫人手掌的X射线图像;上图右b由SpaceX提供简介在地球上拍摄的第一次x射线和在太空中拍摄的最新x射线手掌成像之间有什么联系呢?在威廉·伦琴的突破性发现10
2025-05-13 unistar