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微焦斑尺寸测量:对准挑战与工程解决方案

2026-04-15 16:26:33 unistar

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X-RAY

微焦斑测量的必要性

Why micro-focus spot

北京众星联恒科技有限公司

在X射线光学系统中,小焦斑通常意味着更高的空间分辨率以及更高的局部光子通量密度。特别是对于微区分析以及纳米尺度成像等应用中,系统往往需要通过各种聚焦光学元件将X射线束压缩到几十微米甚至更小。

但在工程调试过程中,仅依赖理论焦距或机械位置并不能保证真实焦斑位置与设计一致。材料误差、光学元件装调误差以及能量变化等因素,都会导致焦点位置和焦斑尺寸发生偏移。因此,无论是验证光学元件的加工质量、评价系统性能,还是完成光路调节,直接观测并准确表征焦斑尺寸都是关键的一步。


微焦斑高分辨成像与测量方法

事实上,对于几十甚至十几微米的焦斑,要实现准确测量并不容易。

通常,焦斑尺寸是通过对焦斑强度分布进行高斯拟合,并以其半高全宽(FWHM)进行表征。为了保证高斯拟合的稳定性,焦斑尺寸通常需要覆盖几十个像素量级(经验上通常不少于约20个像素)。这意味着,对于十几微米的焦斑,探测器的有效像素尺寸需要达到亚微米级。

然而,常规 X 射线平板探测器或直接探测型 CMOS / CCD 探测器的像素尺寸通常在几十微米量级,远远无法满足这样的空间采样要求。

解决方案:透镜耦合相机


透镜耦合相机正是为了解决这一问题而设计。系统首先利用闪烁体将 X 射线转换为可见光,再通过显微物镜进行光学放大,使原本只有几十微米甚至更小的焦斑,在探测器上被放大到数十甚至上百个像素。

通过这种光学放大方式,可以将探测器的有效像素尺寸降低到亚微米级,从而实现对微焦斑结构的精细采样成像。这不仅能够保证高斯拟合的稳定性,从而提高焦斑尺寸计算的准确性。还能够直接观察焦斑形貌、非对称结构以及聚焦状态的变化。因此,在微焦点 X 射线系统中,高分辨透镜耦合相机已经成为一种非常重要的诊断工具。

分辨率与视场的权衡


需要注意的是,通过光学放大获得亚微米级有效像素的同时,系统能够覆盖的实际空间范围也会相应缩小。因此,在高分辨率与大视场之间不可避免地存在权衡。对于微焦斑测量而言,通常需要优先保证分辨率。


小视场条件下的焦点对准挑战

在实验室条件下,高分辨透镜耦合相机是常用的焦斑表征工具。然而,当其直接用于聚焦光斑观测时,由于系统视场通常只有毫米量级(约1–几毫米),焦点必须被准确耦合到探测器视野内。然而,对于一些常见的 X 射线聚焦光学元件,这一过程往往并不容易

这种困难在使用布拉格或类布拉格衍射型光学元件时尤为明显。例如弯晶或多层膜椭球/抛物面镜,其出射光轴通常与系统主轴存在偏离。虽然可以通过激光标线或角度标尺对出射方向进行初步对准,但对于十几或几十厘米的焦距,微小的角度误差就可能导致焦点在空间中产生明显偏移,使其落在探测器视场之外。

此外,反射/衍射角度与 X 射线能量强耦合,当能量发生微小变化时焦点位置也随之漂移,使得在调光过程中利用小视场探测器追踪焦点变得更加困难。

对于组合型聚焦光学元件,如Montel镜或KB镜,这种问题会进一步加剧。多个光学元件之间存在角度耦合关系,调节自由度增加,使得焦点位置在调节过程中更加难以追踪。

即使对于出射与入射共轴的菲涅尔波带片(FZP),由于其焦距对轴向位置极为敏感,轻微离焦就可能导致聚焦光斑迅速减弱甚至难以观察,因此小视场相机直接寻找焦点仍然存在困难。


面阵像素探测器辅助的微焦斑定位

与测量方案

为解决上述困难,我们提出了一种工程上简单而有效的组合表征方案:将小体积轻量化面阵像素探测器与高分辨透镜耦合相机进行组合使用。

通过设计专用机械支架,将面阵像素探测器安装在透镜耦合相机镜头前方,并保证两者探测中心严格对齐。两种探测器整体安装在同一组位移台系统上。

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图1  面阵像素探测器安装在透镜耦合相机前方

在调光对准阶段,首先利用面阵像素探测器较大的探测面积(实验所用:14 mm x 14 mm)寻找焦点。相比高分辨透镜耦合相机(视场:1.17mm x 0.78mm)更容易捕获焦斑信号。通过水平与垂直位移台,可以将焦斑逐步移动至探测面中心位置。

完成焦点定位后,移除面阵像素探测器。由于两种探测器的机械位置关系已知,可以根据结构尺寸计算出焦距方向上的补偿距离,并通过轴向位移台进行相应调整。这样即可将焦斑较为准确地移动到透镜耦合相机的焦平面上,以完成高分辨焦斑表征。

此外,面阵像素探测器还具备 能量分辨能力,可以选择特定能量带宽的X射线信号进行测量,从而获得对应能量条件下的焦斑通量信息。这一特性可以作为透镜耦合相机表征结果的重要补充。

 GO ON 

我们在弯晶聚焦系统中应用该方法,成功实现了焦斑的快速定位与尺寸测量,并通过高分辨相机获得焦斑分布图像及高斯拟合结果。


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图2  系统布局示意图


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图3  离焦状态不同能量阈值(THL4KeV & THL15KeV)的焦斑强度 by MiniPIX

由于预估待测量焦斑尺寸为几十微米,而MiniPIX探测器的像素尺寸为55μm。从图中可以看到,焦斑强度主要集中在单个像素内,因此难以对焦斑尺寸进行准确测量,需要采用具有更小有效像素尺寸的探测器进行表征。


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图4  焦斑强度分布及高斯拟合结果  by SpotCam

使用 20x 透镜耦合相机SpotCam对焦斑进行成像,其实际有效像素尺寸为0.19μm。对焦斑强度分布进行高斯拟合,得到焦斑尺寸(FWHM)为43.127μm

实验所用阵列像素探测器


MiniPIX

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实验所用透镜耦合相机


SpotCam (MH20)

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END

撰稿美编 | yuky

审核 dexter

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本文经「艾格斯瑞 XRAY」原作者授权转载,原文标题:《微焦斑尺寸测量:对准挑战与工程解决方案》,原文链接:https://mp.weixin.qq.com/s/5DQwvuvE8b7l3lO1KY87eA,版权归原作者所有,未经许可请勿二次转载。

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