众星联恒-前沿视界- 极紫外光刻解决方案提供商ESOL获得740亿韩元B轮投资
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世界或许会分化，但科学的光永不熄灭
尽管全球科技格局面临诸多不确定性，未来的世界也许是割裂的，但是尖端技术的火种、及人类对于未知奇妙世界秩序的探索始终会在文明长河中奔涌不息。 X 射线与极紫外（EUV）技术作为突破物理极限的关键领域，正在推动基础科学、半导体、精密检测等行业的深刻变革。
作为深耕极紫外（EUV）及X射线核心部件领域的技术服务商和解决方案的探索者，众星联恒始终以"技术瞭望者"的视角，捕捉全球最新的行业资讯和技术前沿动态。
｜关于 ESOL｜
■ 近日，据韩国知名商业月刊BUSINESSKOREA报道，韩国一家专注于极紫外（EUV）半导体设备的公司 ESOL成功获得了 740 亿韩元的 B 轮投资1。具体其中的投资者包含银行和风险资本（DSC Investment, Industrial Bank of Korea, InterVest, Korea Development Bank, Korea Omega Investment, Mirae Asset Venture Investment, Quantum Ventures, and Yuanta Investment Korea）2。 但是截止目前ESOL并通过官方渠道宣布或确认此消息。
■ ESOL Inc于2018年1月在韩国京畿道东滩(京畿道东滩)成立。得益于在极紫外光源、极紫外光学和系统工程方面的专业知识积累和极紫外光刻领域有着深刻的市场理解，至于为极紫外光刻生产的客户提供经济、高效的极紫外（EUV）解决方案。
｜关于 产线｜
ESOL目前的产线涵盖了如下4个方向:
1. SREM
(Scanning Reflection EUV Microscope)3
SREM是一套反射式扫描极紫外显微系统，主要用户极紫外空白掩膜版中多层膜缺陷的检测等。在2022年10月，此系统已经完成首台交付。交付现场如下：
2. Ephase
(EUV mask phase measurement system)3
EpEphase是一款全球首创的极紫外掩模相位测量系统，用于极紫外光刻掩模（相位移掩模）的验证。
3. EUVPTR
(EUV pellicle transmission and reflectance measurement system)3
EUVPTR是一款用户极紫外薄膜保护罩（pellicle ）透过率和反射测试的系统。目前此系统已于2021年11月完成首台交付。
4. EMiLE
(EUV Micro-interference Lithography Equipment)3
EmiLE是一套使用HHG光源的微干涉光刻系统。
｜关键 人物｜
CEO- Byung-guk Kim
Byung-guk Kim自 2019 年 ESOL 成立以来一直担任首席执行官。在加入 ESOL 之前，他在三星电子担任光掩模开发和生产的项目负责人长达 20 多年。作为光掩模和极紫外掩模领域的专家，他涵盖了几乎所有的与掩模相关的研发和生产工作。他还曾在美国贝尔实验室和日本半导体前沿技术公司负责与下一代电子束光刻和掩模检测相关的研究项目。迄今为止，他已发表了 50 多篇论文，并担任了f SPIE photomask technology和 Photomask Japan 的程序委员会成员。他拥有韩国延世大学的物理化学学士和硕士学位，以及美国印第安纳大学凯利商学院的工商管理硕士学位。
Dong Gun Lee
Lee Dong-geun拥有韩国科学技术院（KAIST）在极紫外光源领域的博士学位。他在三星电子半导体研究所从事极紫外光刻和极紫外掩模的研发工作长达 16 年。他还与日本的极紫外光刻技术发明者金森教授进行了为期两年的联合研究。基于这些积累的经验和技术，他在 ESOL 公司利用极紫外光和光学系统开发半导体设备。
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世界或许喧嚣，但科学的脚步永远向前。
参考信息:
1. https://www.businesskorea.co.kr/news/articleView.htmlidxno=246410
2. https://www.cbinsights.com/company/e-sol/financials
3. http://www.euvsol.com/sub/company/about.php
END
审核：凯文
编辑：Sylvia
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