13.5nm半透半反/分束镜

EUV 性能波长: 13.5 nm 反射率: R ~ 30 % 透射率: T ~ 20 % 偏振: s-pol. 带宽 (FWHM): appr. 2 nm 入射角: 45 degrees 基底分束器框架材料: Si (100)尺寸: 12.0±0.25 mm x 12.0±0.25 mm 厚度: 525±20 μm 窗口尺寸: 8±0.15 mm x 8±0.15 mm 薄膜材料: Si3

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公司介绍

得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注，近10年的积累，对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万多片镜片，中大多数都是半导体工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切，我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG，激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用，针对中国市场联合推出的1/0.5英寸的高性能13.5nm多层膜镜片，并在中国办公室备有库存，以实现镜片的快速交付。同时把EUVL级别镀膜技术带到中国基础科研市场，并可以提供灵活的定制服务，以满足前沿科学研究的特种要求。