得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注，近10年的积累，对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万片镜片，中大多数都是半导体工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切，我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG，激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用，针对中国市场联合推出的1英寸的高性能13.5nm多层膜镜片，并在中国办公室备有库存，以实现镜片的快速交付。
| EUV多层膜平面反射镜 AOI = 5 ° | EUV多层膜平面反射镜 AOI = 45 ° | EUV多层膜球面反射镜 AOI = 5 ° | |
| 反射率 | R＞65% @13.5nm | R＞67% @13.5nm | R＞65% @13.5nm |
| 镀膜材料 | Mo/Si | Mo/Si | Mo/Si |
| AOI | 5° | 45° | 5° |
| Bandwidth (FWHM) | appr. 500 pm | appr. 950 pm | appr. 500 pm |
| 基底 | fused silica | fused silica | fused silica |
| 尺寸 | 25.4 ±0.1 mm | 25.4 ±0.1 mm | 25.4 ±0.1 mm |
| 厚度 | 6.35 ±0.1 mm | 6.35 ±0.1 mm | 6.35 ±0.1 mm |
| 面形精度 | λ/20 @ 632.8 nm | λ/20 @ 632.8 nm | λ/20 @ 632.8 nm |
| 表面粗糙度 | σ< 0.2 nm rms | σ< 0.2 nm rms | σ< 0.2 nm rms |
| 曲率半径 | - | - | 500 mm (± 1 %) |
实测反射率
主要应用：
极紫外相干衍射成像
极紫外显微成像
极紫外光电子能谱
极紫外掩膜版检测