EUV Schwarzschild镜-for 13.5nmMagnification: 21.34NA: 0.2Focal length: 26.95 mmDiffraction limited!λ= 13.5: 40 nmMechanical holder:Material: InvarOverall weight: 4.9 kg Pinhole array test s
得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注，近10年的积累，对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万片镜片，中大多数都是半导体工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切，我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG，激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用，针对中国市场联合推出的1英寸的高性能13.5nm多层膜镜片，并在中国办公室备有库存，以实现镜片的快速交付。
Schwarzschild 物镜因其大孔径、高机械稳定性和无色差的特点而越来越多地用于 EUV 光谱区域的成像光学器件。 EUV Schwarzschild 物镜由Mo/Si多层膜的主镜子和次镜组成，在其上可以使用球面和非球面。 光学元件无应力，并使用固态铰链进行机械稳定安装。 可以在操作期间对镜子进行校正调整。
主要参数
| 20x | 10x | |
| 倍率 | 21.34 | 9.8 |
| NA | 0.2 | 0.44 |
| 焦点距离 | 26.95 | 53.06 |
| 波長 | 13.5nm | 13.5nm |
| 主镜ー１ | ||
| 曲率 | 100mm | 140mm |
| 直径 | 52mm | 106mm |
| 次镜ー２ | ||
| 曲率 | -35mm | -175mm |
| 直径 | 11mm | 48mm |
