13.5nm 极紫外施瓦茨希尔德(Schwarzschild)物镜

EUV Schwarzschild镜-for 13.5nmMagnification: 21.34NA: 0.2Focal length: 26.95 mmDiffraction limited!λ= 13.5: 40 nmMechanical holder:Material: InvarOverall weight: 4.9 kg Pinhole array test s

    得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注,近10年的积累,对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术,至今已经给客户生产了近2万片镜片,中大多数都是半导体工业的客户,如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切,我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG,激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用,针对中国市场联合推出的1英寸的高性能13.5nm多层膜镜片,并在中国办公室备有库存,以实现镜片的快速交付。


    Schwarzschild 物镜因其大孔径、高机械稳定性和无色差的特点而越来越多地用于 EUV 光谱区域的成像光学器件。 EUV Schwarzschild 物镜由Mo/Si多层膜的主镜子和次镜组成,在其上可以使用球面和非球面。 光学元件无应力,并使用固态铰链进行机械稳定安装。 可以在操作期间对镜子进行校正调整。


主要参数


20x10x
倍率21.349.8
NA0.20.44
焦点距离26.9553.06
波長13.5nm13.5nm
主镜ー1
曲率100mm140mm
直径52mm106mm
次镜ー2
曲率-35mm-175mm
直径11mm48mm



首页
产品
新闻
联系