反射式EUV测试图案

反射式EUV测试图案

可提供图案:线宽和缝宽80 nm以下。

  • 产地: 日本
  • 型号:
  • 品牌: NTT-AT

公司介绍:

NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在全球范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量独特的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上最大的帮助。

产品介绍:

· 反射型。

· 可提供图案:线宽和缝宽80 nm以下。其他图案还在研发中。

· 线上可以加工“缺口”,线之间可以加工“桥接”用于标记。

 北京众星联恒科技有限公司

北京众星联恒科技有限公司

 

· 由于设计灵活,所以性能更高,成本也更低。

· 正在开发50 nm及以下的线缝和缝宽图案。在有限条件下,可以提供图案分辨率样本。


北京众星联恒科技有限公司NTT-AT_反射式EUV测试图案_datasheet.pdf

首页
产品
新闻
联系