EUV多层膜反射镜

EUV多层膜反射镜

优点恩梯梯尖端技术公司已提供了20 多年高质量XUV、EUV和X射线反射镜。尤其是利用本公司的丰富经验和出色技能,提供可定制设计的多层膜反射镜,满足各用户的需求。1990年,恩梯梯尖端技术公司开发了极紫外(XUV或EUV)多层反射镜和X射线反射镜并开始销售。并将亚洲、北美洲、南美洲和欧洲的大学、研究所和企业反馈的意见反映到这些反射镜的设计中。本公司将利用广泛积累的经验和可靠的技术支持用户的多层反射

  • 产地: 日本
  • 型号:
  • 品牌: NTT-AT

优点

恩梯梯尖端技术公司已提供了20 多年高质量XUV、EUV和X射线反射镜。xraym_s_001.jpg尤其是利用本公司的丰富经验和出色技能,提供可定制设计的多层膜反射镜,满足各用户的需求。


1990年,恩梯梯尖端技术公司开发了极紫外(XUV或EUV)多层反射镜和X射线反射镜并开始销售。并将亚洲、北美洲、南美洲和欧洲的大学、研究所和企业反馈的意见反映到这些反射镜的设计中。本公司将利用广泛积累的经验和可靠的技术支持用户的多层反射镜生产


特点

因为恩梯梯尖端技术公司的多层反射镜质量高,所以一直被世界上的研究机构所选用。本公司定制多层材料和结构,满足用户的基板、峰值波长、带宽和分散体等详细规格。还应对耐高温多层反射镜。利用同步加速器设备的反射率评估服务也可作为选项提供。

同时也为包括EUV光刻的EUV工业应用提供成本低、交付周期短、质量稳定的多层反射镜。作为用户的研发伙伴,支持用户的EUVL光源开发、EUV光刻胶开发、EUV掩模检查和其它周边领域的实际利用。

XUV多层膜反射镜(EUV多层膜反射镜)

基板形状:平面、凸形、凹形、抛物面、超环面、椭圆面xraym_s_011.jpg基板材料:石英、硅、zero dewer等
多层膜材料:Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等
基板尺寸:φ3毫米至φ300毫米

恩梯梯尖端技术公司将提供高耐用性XUV多层反射镜、耐高温XUV多层膜反射镜以及施瓦兹希尔德光学系统和泵浦探测光学系统等光学系统。


X射线多层膜反射镜

基板形状:平面、椭圆面、抛物面、柱面、超环面xraym03.jpg
基板:石英、硅、zero dewer等
基板材料:W/B4C、W/C、Pt/C等
基板尺寸:最大500毫米

恩梯梯尖端技术公司提供K-B反射镜系统、沃尔特反射镜等

单层反射镜

基板形状:平面、椭圆面、抛物面、柱面、超环面xraym05.jpg基板材料:石英、硅、zero dewer等
多层材料:C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等
基板尺寸:最大500毫米

恩梯梯尖端技术公司提供K-B反射镜系统、沃尔特反射镜等


本公司定制多层材料和结构,满足用户的基板、峰值波长、带宽和分散体等详细规格。还应对耐高温多层反射镜。利用同步加速器设备的反射率评估服务也可作为选项提供。世界上只有为数不多的公司生产和销售EUV反射镜。如果您不满意现在的供应商,恩梯梯尖端技术公司能够制造满足您严格要求的定制设计反射镜。恩梯梯尖端技术公司将推荐正确反映用户规格的最优设计。


 应用示例 基板材料典型波长
XUV(EUV)
反射镜
EUV光刻
高阶谐波应用
阿秒科学
X射线激光器
多层反射镜Mp/Si
Ru/Si
Zr/Al
SiC/Mg
Cr/C
50电子伏至100电子伏
50电子伏至100电子伏
50电子伏至70电子伏
25电子伏至50电子伏
至300电子伏
单层反射镜SiC
Pt
Ru
10电子伏至100电子伏
X射线反射镜同步加速器应用
XFEL应用
内置X射线无损
检查设备
多层反射镜W/C
W/B4C
Ru/C
Pt/C
1k电子伏至30k电子伏
单层反射镜C
B4C
SiC
Cr
Ni
1k电子伏至30k电子伏



恩梯梯尖端技术公司已支持了许多同步加速器辐射应用、XFEL应用、包括阿秒科学和材料科学的高阶谐波应用、软X射线激光应用和天文学的实验和研究。恩梯梯尖端技术公司的XUV多层反射镜的绝无仅有的质量受到学术界的好评。

XUV多层膜反射镜(EUV多层膜反射镜)

北京众星联恒科技有限公司

Φ10毫米平面反射镜

北京众星联恒科技有限公司

测量的Mo/Si多层的反射率
(正入射角:2度)

北京众星联恒科技有限公司

用于泵浦探测试验的多层反射镜

北京众星联恒科技有限公司

测量宽带反射镜、
窄带反射镜(波长:30纳米)的反射率

北京众星联恒科技有限公司

EUV宽带椭圆面反射镜
(Φ100毫米zero dewer)

Mo/Si多层反射镜具有接近13纳米(90电子伏)波长的高反射率。恩梯梯尖端技术公司的Mo/Si多层反射镜具有高达70%的正入射反射率。

恩梯梯尖端技术公司的XUV反射镜的材料、膜结构和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。

X射线多层膜反射镜

北京众星联恒科技有限公司

用于K-B反射镜系统的多层反射镜

W/B4C多层和W/C多层膜反射镜对硬X射线应用具有高反射率。为了有效反射和聚集硬X射线,必须最大限度地缩小入射角的斜角。这需要较长的反射镜长度和较小的多层膜周长。

北京众星联恒科技有限公司

评估的反射率
(波长:0.154纳米,蓝色:测量的反射率,粉红色;计算的反射率,周期长度: 2.95纳米)

恩梯梯尖端技术公司的X射线反射镜的材料、膜结构和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长、带宽和光学装置的需求。

单层反射镜

xraym05.jpg

带钌层的椭圆面反射镜


利用全反射的单层反射镜用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射线范围内的无需波长。
恩梯梯尖端技术公司的单层反射镜的材料和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。


论文列表

  • Hiroki Mashiko,Akira Suda和Katsumi Midorikawa.以1014W/cm2的强度将相干软X射线辐射聚集于测微计光点大小.光学快报,29,1927(2004),http://dx.doi.org/10.1364/OL.29.001927

  • K. Ichiyanagi,T. Sato,S. Nozawa,K. H. Kim,J. H. Lee,J. Choi,A. Tomita,H. Ichikawa,S. Adachi,H. Ihee和S. Koshihara.利用多层光学的宽带宽X射线束的100?ps时间分辨溶液散射.同步加速器辐射杂志,16,391(2009),http://dx.doi.org/10.1107/S0909049509005986

  • Kyung Hwan Kim,Jong Goo Kim,Shunsuke Nozawa,Tokushi Sato,Key Young Oang,Tae Wu Kim, Hosung Ki,Junbeom Jo,Sungjun Park,Changyong Song,Takahiro Sato,Kanade Ogawa,Tadashi Togashi,Kensuke Tono,Makina Yabashi Tetsuya Ishikawa,Joonghan Kim,Ryong Ryoo,Jeongho Kim,Hyotcherl Ihee和Shin-ichi Adachi.直接观察带飞秒X射线散射的溶液中的键形成.自然,518,385 (2015),http://dx.doi.org/10.1038/nature14163

  • Kil-Byoung Chai和Paul M. Bellan.用于成像毫秒时间尺度磁重联的极紫外摄影机.科学仪器评论,84,123504(2013),http://dx.doi.org/10.1063/1.4841915

  • Hiroki Mashiko,Tomohiko Yamaguchi, Katsuya Oguri,Akira Suda和Hideki Gotoh, 用光谱相位相干直接电场重建描绘内壳层.自然通信,5,5599(2014), http://dx.doi.org/10.1038/ncomms6599

  • Hiroki Mashiko,Steve Gilbertson,Michael Chini,Ximao Feng,Chenxia Yun,He Wang, Sabih D. Khan,Shouyuan Chen和Zenghu Chang.支持小于一个原子时间单位的脉冲持续时间的极紫外超连续谱.光学快报,34,3337 (2009),http://dx.doi.org/10.1364/OL.34.003337

  • Mizuho Fushitani,Akitaka Matsuda,Akiyoshi Hishikawa.利用42 eV和91 eV高次谐波的单级激光的孤立原子和分子的EUV和软X射线光电子能谱.电子光谱学及相关现象杂志,184,561(2012),http://dx.doi.org/10.1016/j.elspec.2011.10.002

出版物列表(包括合著论文):

  • Satoshi Ichimaru,Masatoshi Hatayama,Tadayuki Ohchi和Satoshi Oku.用于EUV光刻的300个双层Mo/Si多层反射镜.SPIE会议录9658, 日本光掩模2015:光掩模和下一代光刻掩模技术 XXII,965814 (2015),http://dx.doi.org/10.1117/12.2197314

  • Hisataka Takenaka,Satoshi Ichimaru,Koumei Nagai,Tadayuki Ohchi,Hisashi Ito和E. M. Gullikson.利用施瓦兹希尔德显微镜的µ-XPS用多层反射镜.表面与界面分析37,181(2005),http://dx.doi.org/10.1002/sia.1959

  • Ichiro Yoshikawa,Tetsunori Murachi, Hisataka Takenaka和Satoshi Ichimaru.30.4纳米的多层涂层.科学仪器评论,76,066109(2005), http://dx.doi.org/10.1063/1.1938867

  • M. Hatayama,H. Takenaka,E. M. Gullikson,A. Suda和K. Midorikawa.用于35至65电子伏光子能超连续光谱的宽带极紫外多层反射镜.应用光学,48,5464-5466 (2009),  http://dx.doi.org/10.1364/AO.48.005464


首页
产品
新闻
联系