EUV/SXR准直,聚焦镜

EUV/SXR准直,聚焦镜

MFO是一款应用于软X射线和EUV波段的光学器件,有两组相互垂直的极薄反射镜组成,光子通过掠入射角进行反射。

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产品特点:

光学面材料:Au,Ni,Mo,etc...

先进的复制技术

光谱范围:EUV(60-200eV)

             SXR(200-2000eV)

j镜片形态:椭球镜,抛物面镜,也可根据需求定制其他非球面镜

典型表层粗糙度:Ra≈0.3-2nm

典型尺寸:直径(D)5-250mm;长度(L)10-100mm



2.MFO

MFO是一款应用于软X射线和EUV波段的光学器件,有两组相互垂直的极薄反射镜组成,光子通过掠入射角进行反射。MFO一般由玻璃,硅或金属等薄片组装而成。

可根据客户要求定制多种形状(如龙虾眼,Kirkptrick-Baez等)

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产品特点:

光学面材料:Au,Ni,Mo,etc...

宽视场(max±60°)

薄片厚度:30μm-1mm

孔径:3x3mm-300x300mm

能量范围:50eV-10keV)

平面,椭圆,和一般非球面

玻璃、硅和金属

表层材料:Au, Ni, Mo, Pt, W...

1.基本参数

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Figure1: Geometry of an ellipsoidal mirror  Figure2: Geometry of a parabolic mirror  




      Type           L         D1      D2         Z1       Zd     Divergence 

[mm][mm][mm][mm][mm][mrad]
RE_0850610.572100012
RE_0910056.67045300450
RE_10100781132450266090
RO_0016811.614145270X

Figure3: Parameters of standard mirrors 


   

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Figure4: Ellipsoidal mirror,

Ni active surface, L=100mm  

Figure4: Ellipsoidal mirror,

Au active surface, L=80mm 


2.MFO         

北京众星联恒科技有限公司


北京众星联恒科技有限公司

激光等离子体源, Xe和Kr EUV辐射的聚焦强度分布。 MFO elliptical Kirkpatrick-Baez system. MFO椭圆K-B系统。


北京众星联恒科技有限公司EUV、SXR准直,聚焦镜 datasheet 2020.7.16.pdf

论文列表

  • Hiroki Mashiko,Akira Suda和Katsumi Midorikawa.以1014W/cm2的强度将相干软X射线辐射聚集于测微计光点大小.光学快报,29,1927(2004),http://dx.doi.org/10.1364/OL.29.001927

  • K. Ichiyanagi,T. Sato,S. Nozawa,K. H. Kim,J. H. Lee,J. Choi,A. Tomita,H. Ichikawa,S. Adachi,H. Ihee和S. Koshihara.利用多层光学的宽带宽X射线束的100?ps时间分辨溶液散射.同步加速器辐射杂志,16,391(2009),http://dx.doi.org/10.1107/S0909049509005986

  • Kyung Hwan Kim,Jong Goo Kim,Shunsuke Nozawa,Tokushi Sato,Key Young Oang,Tae Wu Kim, Hosung Ki,Junbeom Jo,Sungjun Park,Changyong Song,Takahiro Sato,Kanade Ogawa,Tadashi Togashi,Kensuke Tono,Makina Yabashi Tetsuya Ishikawa,Joonghan Kim,Ryong Ryoo,Jeongho Kim,Hyotcherl Ihee和Shin-ichi Adachi.直接观察带飞秒X射线散射的溶液中的键形成.自然,518,385 (2015),http://dx.doi.org/10.1038/nature14163

  • Kil-Byoung Chai和Paul M. Bellan.用于成像毫秒时间尺度磁重联的极紫外摄影机.科学仪器评论,84,123504(2013),http://dx.doi.org/10.1063/1.4841915

  • Hiroki Mashiko,Tomohiko Yamaguchi, Katsuya Oguri,Akira Suda和Hideki Gotoh, 用光谱相位相干直接电场重建描绘内壳层.自然通信,5,5599(2014), http://dx.doi.org/10.1038/ncomms6599

  • Hiroki Mashiko,Steve Gilbertson,Michael Chini,Ximao Feng,Chenxia Yun,He Wang, Sabih D. Khan,Shouyuan Chen和Zenghu Chang.支持小于一个原子时间单位的脉冲持续时间的极紫外超连续谱.光学快报,34,3337 (2009),http://dx.doi.org/10.1364/OL.34.003337

  • Mizuho Fushitani,Akitaka Matsuda,Akiyoshi Hishikawa.利用42 eV和91 eV高次谐波的单级激光的孤立原子和分子的EUV和软X射线光电子能谱.电子光谱学及相关现象杂志,184,561(2012),http://dx.doi.org/10.1016/j.elspec.2011.10.002

出版物列表(包括合著论文):

  • Satoshi Ichimaru,Masatoshi Hatayama,Tadayuki Ohchi和Satoshi Oku.用于EUV光刻的300个双层Mo/Si多层反射镜.SPIE会议录9658, 日本光掩模2015:光掩模和下一代光刻掩模技术 XXII,965814 (2015),http://dx.doi.org/10.1117/12.2197314

  • Hisataka Takenaka,Satoshi Ichimaru,Koumei Nagai,Tadayuki Ohchi,Hisashi Ito和E. M. Gullikson.利用施瓦兹希尔德显微镜的µ-XPS用多层反射镜.表面与界面分析37,181(2005),http://dx.doi.org/10.1002/sia.1959

  • Ichiro Yoshikawa,Tetsunori Murachi, Hisataka Takenaka和Satoshi Ichimaru.30.4纳米的多层涂层.科学仪器评论,76,066109(2005), http://dx.doi.org/10.1063/1.1938867

  • M. Hatayama,H. Takenaka,E. M. Gullikson,A. Suda和K. Midorikawa.用于35至65电子伏光子能超连续光谱的宽带极紫外多层反射镜.应用光学,48,5464-5466 (2009),  http://dx.doi.org/10.1364/AO.48.005464


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