公司介绍得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注，近10年的积累，对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万多片镜片，中大多数都是半导体工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切，我们共同决定将在半导体工业
公司介绍
得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注，近10年的积累，对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万多片镜片，中大多数都是半导体工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切，我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG，激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用，针对中国市场联合推出的1/0.5英寸的高性能13.5nm多层膜镜片，并在中国办公室备有库存，以实现镜片的快速交付。同时把EUVL级别镀膜技术带到中国基础科研市场，并可以提供灵活的定制服务，以满足前沿科学研究的特种要求。
对于大于13.5nm的XUV波段对于高次谐波、天文学、x射线激光以及其他应用来说都非常重要。特别是高次谐波，如阿秒动力学测量、角分辨光电子能谱和双光子吸收等基础材料。在这个波段我们可以提供灵活且有反射率保证的镀膜涉及以用于HHG光源谐波挑选、聚焦等应用。
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典型多层膜设计反射率实测
典型基底尺寸
| 参数 | 平面基底 | 球面基底 |
| 基底材料 | fused silica | fused silica |
| 尺寸 | 25.4 -0.1 mm/12.7-0.1 mm | 25.4 -0.1 mm/12.7-0.1 mm |
| 厚度 | 6.35 ±0.25 mm | 6.35 ±0.25 mm |
| 面形精度 | λ/20 @ 632.8 nm PV | λ/20 @ 632.8 nm PV |
| 表面粗糙度 | < 0.2 nm rms | < 0.2 nm rms |
| 曲率半径 | - | 500 mm (± 1 %) |
典型应用
HHG谐波挑选
XUV单色仪
等离子光源分析
天文观测
● 中心波长 ● 反射带宽 (FWHM) ● 所需的最小反射率、入射角和偏振 ●基底尺寸和形状 ● 数量