产品简介
ultraLYZE VUV 是一款高性能真空紫外（VUV）光谱测量系统，集透射与反射测量于一体，专为115–350 nm深紫外波段精密分析设计。采用全自动操作模式（turn-key），支持高真空（<10⁻⁶ mbar）或氮气吹扫环境，满足材料在极端条件下的光学特性表征需求，精度稳定优于0.3%，为科研与工业提供可靠数据支撑。
为何选择 ultraLYZE VUV？
全波段覆盖
115 nm起测，突破常规紫外限制，直达深紫外临界波段
工业级精度
双光路校准技术实现<0.3%超稳重复性，适用于质检场景
环境适应性
高真空/惰性气体双模式，应对VUV苛刻测量条件
模块化未来
按需升级偏振、微区、自动化功能，保护设备投资价值
适用场景：光学镀膜实验室、半导体光刻研发中心、空间载荷研制单位、新型能源材料评估平台
关键规格参数
核心结构与技术特点
典型应用领域
先进光学材料
VUV抗反射膜、氟化镁（MgF₂）/氟化钙（CaF₂）透镜/窗片的透射率与反射损耗分析。
半导体光刻技术
光刻胶在DUV/VUV波段的吸收特性与均匀性评估（支持193 nm/157 nm关键波长）。
空间科学与天文探测
空间望远镜镜面涂层在Lyman-α（121 nm）等波段的反射性能验证。
探索物质深紫外响应的终极工具——从基础研究到产线质检，ultraLYZE VUV定义VUV光谱新标准。
关键规格参数
核心结构与技术特点
典型应用领域
先进光学材料
VUV抗反射膜、氟化镁（MgF₂）/氟化钙（CaF₂）透镜的透射率与反射损耗分析。
半导体光刻技术
光刻胶在EUV/VUV波段的吸收特性与均匀性评估（支持193 nm/157 nm关键波长）。
空间科学与天文探测
空间望远镜镜面涂层在Lyman-α（121 nm）等波段的反射性能验证。