X射线纳米成像测试卡（0.01-4μm）
常规X射线成像很大程度上依靠便捷的工具来评估各检测系统的性能，其中最常用的就是分辨率测试卡。对于基于同步辐射的扫描X射线显微或者相干衍射成像（CDI）、甚至叠层相干衍射成像（PTY）的成像分辨率可以低至数纳米。使用我们专为高精度测试任务设计的X射线纳米测试卡（2D Resolution Test Target）探索无与伦比的精度。凭借针对Gold优化的基础结构，我们的目标提供从4μm到50nm的分
- 产地： 瑞士
- 型号：
- 品牌： XRnanotech
空间分辨率是 X射线成像图像质量的一项重要性能指标，其测试工作也是X射线成像设备性能测试的重要内容。线对卡法，是使用线对测试卡直接测试空间分辨率，由于操作方便、简捷而被广泛用于 实际工业 CT 或者基于同步辐射X成像系统的空间分辨率的测试中。对于基于同步辐射的扫描X射线显微或者相干衍射成像（CDI）、甚至叠层相干衍射成像（PTY）的成像分辨率可以低至数纳米。
使用我们专为高精度测试任务设计的X射线纳米成像测试卡（2D Resolution Test Target）探索无与伦比的精度。凭借针对Gold优化的基础结构，我们的目标提供从4μm到50nm的分辨率，确保了出色的细节。我们还根据要求提供低至10nm的铱结构，以满足那些寻求极高精度的要求。通过先进的设计与细致的纳米制造技术的碰撞，使得我们的测试卡可以提高您的成像进度。
我们有如下规格，以满足您的具体实验要求：
•50纳米Au：纯金结构，提供精确，高分辨率成像。
•30纳米Au/Ir Hybrid：混合材料增强细节。
•20纳米Au/Ir混合型：用于特殊成像需求的超精细结构。
•10纳米Au/Ir混合结构：我们为那些推动纳米级成像极限的最精确的结构。
主要参数：
高衬度材料:500nm Au和100nm Ir
超宽的测试范围：0.01-4μm
紧凑的设计：0.3x0.3μm
图案设计和硅窗均可定制
保护层：厚聚合物（50nm测试卡可选）
质量保证：每年交付数百片
图案布局：
横截面图：
关于XRnanotech：
XRnanotech是瑞士领先的高质量x射线光学元件制造商，从具有破纪录分辨率的高纵横比菲涅耳带片到超稳定的钻石光学元件和用于广泛x射线应用的定制3d纳米结构。众星联恒联合XRnanotech，为中国用户提供所有售前咨询，销售及售后服务，欢迎联系我们。
产品手册：
X射线纳米成像测试卡2D Resolution Test Target-产品手册-众星联恒-2025-4-7.pdf
