13.5nm菲涅尔波带片
衬度材料：SiO2 衬度材料厚度：~250nm支撑薄膜材料：Si支撑薄膜厚度：~200nm支撑薄膜透过率： 预计衍射效率>14% @13.5nm主要应用方向：相干衍射成像掩模版检测
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众星合作伙伴-XRnanotech介绍
XRnanotech是瑞士知名的Paul Scherrer Institute研究所10多年研发的结晶，于2020年成立，旨在将最新的突破性X射线光学创新引入市场。瑞士XRnanotech专注于研究纳米结构，开发和制造最具创新性的X射线光学器件，以实现最高分辨率、效率、稳定性和设计质量。产品线包括菲涅耳波带片、纳米级光栅、金刚石光学器件、纳米分辨率测试卡、3D分辨率测试卡等。XRnanotech 制造的菲涅耳波带片分辨率可低至<10nm，凭借独特的 Ir-线倍增技术，可以获得精确到 5nm 的 X 射线束聚焦，这使得 XRnanotech 成为 X 射线透镜世界纪录保持者。
同时为了让科研人员和工程师能快速开始实验，我们备有多种规格的极紫菲涅尔波带片（FZP），以实现FZP的快速交付。
衬度材料：SiO2
衬度材料厚度：~250nm
支撑薄膜材料：Si
支撑薄膜厚度：~200nm
支撑薄膜透过率：~70%
预计衍射效率>14% @13.5nm
典型应用：
相干衍射成像
极紫外掩模版检测
EUV显微成像
角分辨光电子能谱