SiN.SiC膜

SiN / SIC膜

公司介绍:NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在全球范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量独特的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广

  • 产地: 日本
  • 型号:
  • 品牌: NTT-AT

公司介绍:

NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在全球范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量独特的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上最大的帮助。

产品介绍:

NTT-AT是世界上少数能够提供SiC膜的供应商之一。与SiN膜相比,SiC多晶膜在X射线和电子束照射下具有更优秀的耐久性。我们的SiC膜和SiN膜在基础研究和工业领域,常被用作样品夹具,液体池和真空窗口。

标准款:

材料

型号

芯片尺寸(mm)

厚度(mm)

膜尺寸(mm)

厚度(nm)

SiN

MEM-N03001/7.5M

7.5 × 7.5

0.625

3 × 3

100

SiN

MEM-N02001/10M

10 × 10

0.625

2 × 2

100

SiN

MEM-N03002/7.5M

7.5 × 7.5

0.625

3 × 3

200

SiN

MEM-N03002/10M

10 × 10

0.625

3 × 3

200

SiN

MEM-N020027/10M

10 × 10

0.625

2 × 2

270

SiN

MEM-N0302/10M

10 × 10

0.625

3 × 3

2,000

SiN

MEM-N0301/10M

10 × 10

0.625

3 × 3

1,000

SiC

MEM-C03003/10M

10 × 10

0.625

3 × 3

300

SiC

MEM-C0301/10M

10 × 10

0.625

3 × 3

1,000


北京众星联恒科技有限公司NTT-AT_SiN 、SIC膜 datasheet 2020.7.16.pdf


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