X射线菲涅尔波带片

X射线菲涅耳波带片

世界上只有恩梯梯尖端技术公司生产基于SiC膜的 FZP。恩梯梯尖端技术公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带片(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。恩梯梯尖端技术公司的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。

  • 产地: 日本
  • 型号: FZP-S38/84等
  • 品牌: NTT-AT

世界上只有恩梯梯尖端技术公司生产基于SiC膜的 FZP

优点

恩梯梯尖端技术公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。

只有恩梯梯尖端技术公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性。恩梯梯尖端技术公司的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。

另外,还提供用于软X射线和极紫外(EUV、XUV)领域的Ta图案/SiN膜型FZP和Au板图案/SiN 膜型FZP。并提供台阶式(基诺全息照片)FZP。

特点

要点

  • 能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。

  • 出色的高耐X射线辐射性

  • 最小区域宽度达25纳米

  • 可定制FZP


菲涅耳波带板(FZP)的X射线吸收体图案

可按要求定制设计FZP,满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品,请联系我们。

xray_fzp_001
图案示意图
(φ2.5mm)(光学显微镜)
xray_fzp_002
以对角观察的SEM图
(SEM)





菲涅耳波带板(FZP)的结构


xray_fzp_003
二进制型
xray_fzp_004

台阶(基诺全息照片)式




最小区域宽度25纳米
最大直径5毫米
膜材料

SiN, SiC

膜厚度0.2至2微米
吸收体材料Ta
吸收体厚度0.1至2微米
Si基板形状10平方毫米
Si基板厚度1毫米

※我们可与用户商讨不同需求。


带规格的标准产品列表

型号宽高

材料

厚度
(微米)
ΔRn
(纳米)
D
(微米)
NTm
(纳米)
FZP-S38/844.2SiN0.153884550160
FZP-S50/805SiN0.25080400250
FZP-S40/1555SiN240155970200
FZP-S50/3308SiN1503301,650400
FZP-S86/4168SiN2864161,200700
FZP-100/1558SiN2100155388800
FZP-173/2085.8SiN21732083001,000
FZP-200/2068SiN22002062551,600
FZP-C234/25000.6SiC0.22342,5002,670150

※规格可能会变更,恕不预先通告。

Rn:最外区域宽度
D:直径
N:全区域
Tm:Ta厚度

标准交付周期:12个星期


产品示例


  • 超精密图案菲涅耳波带板(FZP)

菲涅耳波带板(FZP)直径:250微米,Ta厚度:125纳米,最外区域宽度:25纳米,膜:SiC 2.0微米

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  • 高纵横比(较厚Ta吸收体)菲涅耳波带板(FZP)

菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:2.5微米,最外区域宽度:250纳米,膜:SiN 2.0微米

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  • 台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)

菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:4.0微米,最外区域宽度:400纳米,膜:SiC 2.0微米

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北京众星联恒科技有限公司


菲涅耳波带板(FZP)中间区域的SEM 图:台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)、Ta图案



北京众星联恒科技有限公司NTT-X射线菲涅耳波带片 datasheet 2020.7.16.pdf

论文列表

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  • Akihisa Takeuchi,Kentaro Uesugi和Yoshio Suzuki.利用扫描–成像X射线光学显微镜的三维相衬X射线微断层摄影,同步加速器辐射杂志. 20,793(2013),http://dx.doi.org/10.1107/S0909049513018876

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出版物列表(包括合著论文):

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