众星联恒-前沿视界 - EUV&X射线行业洞察
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尽管全球科技格局面临诸多不确定性，未来的世界也许是割裂的，但是尖端技术的火种始终在文明长河中始终会奔涌不息。极紫外（EUV）与X射线技术作为突破物理极限的关键领域，正在推动基础科学、半导体、精密检测等行业的深刻变革。
作为深耕极紫外（EUV）及X射线核心部件领域的技术服务商和解决方案的探索者，众星联恒始终以"技术瞭望者"的视角，捕捉全球最新的行业资讯和技术前沿动态。
来自德国马克斯·玻恩研究所和柏林工业大学的Pritha Dey和Stefan Eisebit等研究人员在APL Photonics 发表了一篇名为：“Above-mJ optical parametric chirped pulse amplifier at 3 μm for laser-driven coherent soft x-ray generation beyond the water window”的文章。该文章同时还被选为编辑精选。
在本研究中，研究人员破了中红外OPCPA系统的极限，在3μm（10 kHz）处实现了>1 mJ的脉冲能量。这些脉冲是朝着在实验室装置中通过高次谐波（HHG）产生水窗口外（500-900 eV）相干软X射线迈出的关键一步，为在3d金属磁二向色性L吸收边进行超快成像和光谱研究开辟了新的可能性。
文章链接：https://doi.org/10.1063/5.0254045
来自美国科罗拉多大学的Drew Morril，Will Hettel，Daniel Carlson,Benjamin Shearer研究人员及其他来自英国和挪威的合作者一起在arxiv预先发表了一篇名为：“Soft X-ray high-harmonic generation in an anti-resonant hollow core fiber driven by a 3 μm ultrafast laser”的研究文章。
由中红外飞秒激光器驱动的高次谐波上转换可在桌面级装置中产生相干软X射线光束。文章报道了一种紧凑型镱泵浦光参量啁啾脉冲放大器 (OPCPA) 激光系统，该系统采用全光纤前端作为种子源，并采用周期极化铌酸锂 (PPLN) 非线性介质，工作在接近目前市售 PPLN 晶体脉冲能量极限的水平。
该 OPCPA 可在 1 kHz 重复频率下输出波长为 3 μm、能量为 775 μJ 的脉冲，脉冲宽度达到变换极限的 120 fs，光束质量达到衍射极限，并在超过 18 小时内保持 0.33% 均方根值的超高能量稳定性。利用该激光器，研究人员将氩气中的软X射线高次谐波（HHG）聚焦到低损耗、高压充气反谐振空芯光纤（ARHCF）中，产生光子能量高达氩L边（250 eV）和碳K边（284 eV）的相干光，光束质量高，能量稳定性约为1% rms。
文章链接：https://doi.org/10.48550/arXiv.2504.01112
来自俄罗斯的科研人员Mikhail Sorokovikov等在Nanobiotechnology Reports发表一篇名为：“2D X-ray Focusing Device Based on Silicon Planar Refractive Lenses”的研究文章。
该研究小组使用电子束光刻和深度离子蚀刻技术加工了硅平面CRL镜子，并在库尔恰托夫研究所的RKFM光束线进行了聚焦性能测试，其中使用了众星联恒合作伙伴捷克RITE公司的高分辨X射线相机对聚焦光斑的尺寸及强度分布进行分析。
文章链接：https://doi.org/10.1134/S2635167624602389
全球领先的半导体检测设备制造商-LASERTEC凭借高亮度EUV等离子光源“URASHIMA”的研发成果，荣获日本激光学会颁发的第十七届激光产业杰出奖。
“URASHIMA”是一种激光等离子体（LPP）光源，通过向高速旋转的液化锡发射激光脉冲来产生EUV光。其设计针对光化学图案化掩模检测（APMI）工具“ACTIS”的光学系统进行了优化，以最大限度地减少热负荷并防止薄膜受损，同时实现高亮度穿透薄膜掩模的检测。激光产业奖旨在表彰那些通过开发、实际应用和传播激光产品和技术，为日本激光相关产业发展做出杰出贡献的人士。
自2025年2月17日起，物理学家、荷兰ARCNL小组负责人Oscar Versolato 被任命为极紫外等离子体过程教授。他的职位隶属于阿姆斯特丹自由大学（Vrije Universiteit Amsterdam）的物理与天文学系。
（Oscar Versolato 教授照片）
Oscar Versolato 于2011年获得荷兰格罗宁根大学博士学位，研究方向为激光光谱学，主要针对被捕获的短寿命镭离子。他在德国海德堡的马克斯·普朗克核物理研究所进行了博士后研究，研究内容包括高电荷离子的光谱学与激光共振冷却（与布伦瑞克的PTB合作），以及分子离子（与奥胡斯大学合作）的研究。自2014年起，Versolato开始在ARCNL从事源研究工作。自2019年起，他担任ARCNL极紫外等离子体过程小组的终身组长，并且是阿姆斯特丹自由大学的副教授。他目前的研究兴趣包括极紫外辐射的等离子体源、激光脉冲撞击后液滴形变与碎裂、高电荷离子的物理以及光谱学等领域。Versolato曾获得2016年NWO Vidi研究资助、2018年ERC Starting grant和2022年ERC Consolidator grant。他是ARCNL源部门的负责人，并且是ARCNL及阿姆斯特丹自由大学管理团队的一员。
Intel前CEO Pat Gelsinger获得了xLight执行主席的新职位
ASML最新600W极紫外光源
2025年2月来自荷兰ASML公司的Qiushi Zhu在SPIE 先进光刻技术大会上，展示了ASML EUV 光源性能的最新成果-下一代 >600W 的 EUV 光源，并有望实现 >1000W 的功率。
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