如此轻松！30分钟快速搭建X射线相衬、暗场成像光栅装置
模块化 高性价比 X射线相衬 暗场成像套件
与传统的X射线吸收成像相比，X射线相位衬度成像能够为轻元素样品提供更高的衬度，特别适合用于对软组织和轻元素构成的样品进行成像。
目前主要存在5类相衬成像方式，他们大部分对光源的相干性要求极高，只能在同步辐射光源或者借助微焦点X射线源实现。而光栅法相衬成像，经过十多年的发展，已经成为在实验室实施相衬成像实验的主流技术路线。
但是，高深宽比和大视场光栅的制作一直是困扰研究人员的一个痛点，LIGA技术的出现及成熟，使得此类光栅的制作变得更加的容易及可靠。
基于X射线相衬成像的光栅利用Talbot自成像效应来获取有关X射线因折射和散射而产生的微小角度偏转的信息。这在医学成像和材料研究等各个领域都有潜在的应用。
但是对于刚进入这一研究领域的科研工作者或者单纯想快速获得相衬图片的用户来说，繁琐的光栅参数模拟、全新开模制作光栅价格昂贵、精密平移台的选择及精密调节都将耗费大量的精力。
为了解决这个问题，德国microworks公司推出了一套模块化、高性价比的X射线相衬、暗场成像套件-TALINT EDU。
-TALINT套件-
Microworks的TALINT EDU系统是一款结构紧凑、物美价廉的TALbot干涉仪套件。它是X射线Talbot-Lau干涉仪的巧妙简化形式，包括了建立和微调干涉仪所有必要的硬件，通过相位步进步骤来获得三种成像模式应用：吸收成像、相衬成像和暗场成像。
使用者可以在不到半小时的时间内快速组装。对于这个简化的系统来说，图像采集是手动的，在相位步进过程中获得的图像非常适合于图像分析科学家。
- TALINT EDU包装一览 -
Talint-EDU 套件主要参数
套件规格
| 套件尺寸 | 60cm x15cm x20cm |
| 安装 | EDU套件底板为M6螺孔，孔间距25mm的面包板，可安装于用户的光学平台或任何适合 25mm 间距的装置 |
| G0-G1和G1-G2距离 | 29cm，通过精密定位销固定；对称安装 |
| 方案1：所有3个光栅角灵敏度的设计能量周期（光栅周期超过光栅间距） | 40 keV 6.0 μm 21 μrad |
| 方案2：所有3个光栅角灵敏度的设计能量周期 | 21 keV 4.8 μm 16 μrad |
| 典型值>15% |
光栅组选项 （含3块光栅）
| 标准规格参数 | 设计能量-40 keV | 设计能量-21 keV |
| 光栅周期（3块） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光栅占空比 | 0.55（容差范围0.5-0.6） | 0.55（容差范围0.5-0.6） |
| G0 G2 光栅衬底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光栅占空比 | 0.5（容差范围0.45-0.55） | 0.5（容差范围0.45-0.55） |
| G1 光栅基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 视场范围（样品） | 35mm | 35mm |
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应用示例
1. CFRP拉伸试验试棒
吸收像
相位像
暗场像
- 相衬成像增强了空腔折射信号的成像衬度
- 暗场成像增强了由纤维束引起的散射信号的成像衬度
2. 裂纹损伤
吸收像 暗场像
- 暗场成像增强了发丝状裂纹散射信号的成像衬度
3. 3D打印钛波纹管
照片
吸收像
暗场像
- 暗场成像增强了残留粉末散射信号的成像衬度
Microworks 代理产品
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德国Microworks公司基于及独特的LIGA技术，向广大科研用户提供定制化的微结构加工服务。其中，它的X射线透射光栅在相衬成像领域，有着极高的声誉。
北京众星联恒科技有限公司作为Microworks公司中国区授权总代理商，为中国客户提供Microworks所有产品的售前咨询，销售及售后服务。我司始终致力于为广大科研用户提供专业的EUV、X射线产品及解决方案。如果您有任何问题，欢迎联系我们进行交流和探讨。