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    薄膜生长原位监测掠入射小角散射(GISAXS)系统

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    图1. 原位薄膜GISAXS系统图2. 双离子束溅射示意图 此套解决方案,主要用于实时监测薄膜生长以优化沉积过程。薄膜生长的原位GISAXS测量目前主要通过同步辐射实现。本系统与客户的双离子束溅射装置完美匹配,在普通实验室就可进行相关测量,灵活性极高。 核心部件光源:Incoatec的IμS,Cu 靶Kα辐射,探测器:Dectris混合像素单光子计

    1. 基本信息
    2. 技术参数
    3. 应用案例
    4. 资料/文献

    此套解决方案,主要用于实时监测薄膜生长以优化沉积过程。薄膜生长的原位GISAXS测量目前主要通过同步辐射实现。本系统与客户的双离子束溅射装置完美匹配,在普通实验室就可进行相关测量,灵活性极高。


    核心部件

    • 光源:Incoatec的IμS,Cu 靶Kα辐射;

    • 探测器:Dectris混合像素单光子计数二维X射线探测器Pilatus 200K。

    • 无散射针孔;

    • beamstop

    其中,专用于小角散射的IμS微焦源,发散角小,亮度高;且可被灵活准确的移动/转动,这对准确调整掠入射角度非常重要。

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    图1. 原位薄膜GISAXS系统

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    图2. 双离子束溅射示意图

    小结:

    全球首套实验室级实时监测薄膜生长的掠入射小角散射(GISAXS)系统。曝光时间仅为8s,入射角调到与临界角接近,可以达到实时沉积的亚单层灵敏度。

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    图3(a). GISAXS原位测量的薄膜倒晶格空间

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    图3(b).临界角处qy的时间演变


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