13.5nm菲涅尔波带片

衬度材料:SiO2;衬度材料厚度:~250nm;支撑薄膜材料:Si;支撑薄膜厚度:~200nm;支撑薄膜透过率:~70%@13.5nm;预计衍射效率:>14%@13.5nm。主要应用:相干衍射成像、掩模检查。

品牌: XRnanotech

产品介绍

XRnanotech是瑞士知名的Paul Scherrer Institute研究所10多年研发的结晶,于2020年成立,旨在将最新的突破性X射线光学创新引入市场。瑞士XRnanotech专注于研究纳米结构,开发和制造最具创新性的X射线光学器件,以实现最高分辨率、效率、稳定性和设计质量。产品线包括菲涅耳波带片、纳米级光栅、金刚石光学器件、纳米分辨率测试卡、3D分辨率测试卡等。XRnanotech 制造的菲涅耳波带片分辨率可低至<10nm,凭借独特的 Ir-线倍增技术,可以获得精确到 5nm 的 X 射线束聚焦,这使得 XRnanotech 成为 X 射线透镜世界纪录保持者。

同时为了让科研人员和工程师能快速开始实验,我们备有多种规格的极紫菲涅尔波带片(FZP),以实现FZP的快速交付。

通用参数

衬度材料
SiO2
衬度材料厚度
~250nm
支撑薄膜材料
Si
支撑薄膜厚度
~200nm
支撑薄膜透过率
~70%@13.5nm
预计衍射效率
>14% @13.5nm

关于众星联恒和XRnanotech

XRnanotech是一家源自瑞士保罗谢勒研究所(Paul Scherrer Institut)超过十余年前沿研究与开发成果的高科技企业,于2020年正式成立,致力于将纳米光学领域的突破性创新推向产业化应用。其中德国Mciroworks公司是XRnanotech的子公司,非常擅长使用LIGA技术,制造高深宽比微纳结构。

公司愿景是赋能全球光学仪器,使其充分发挥性能潜力,突破现有技术边界;使命则专注于开发与制造最高水平的纳米光学器件,在分辨率、效率、稳定性与结构设计等关键指标上实现极致优化。

其产品线包括:极紫外、X射线菲涅耳波带片、X射线相衬光栅、金刚石光学器件、X射线微纳米分辨率测试卡、超透镜和中子光栅等,应用领域涵盖X射线科学研究、材料分析、医学成像等多个前沿方向。凭借独特的 Ir-线倍增技术,XRnanotech 可以制造分辨率可低至<10nm的菲涅耳波带片,并提供各种材料,如金,镍,硅(二氧化硅),铱,铬甚至金刚石。

众星联恒作为瑞士XRnanotech公司中国区的独家代理,为中国用户提供所有售前咨询,销售及售后服务。同时,众星联恒作为一家前沿EUV-X射线领域服务及解决方案提供商,目前已储备一定规模的EUV与X射线相关设备与核心部件库存,具备快速交付能力,以更好地服务我们的用户。同时我们创建了设施完善的X射线开放实验室,配备了多套先进的X射线光源系统、光学元件以及探测器,可支持包括X射线成像、相衬成像、衍射分析、荧光检测以及X射线源性能表征在内的多样化的测试、预研和论证工作。

我们是一支对于极紫外、X射线技术充满热情的团队,如果你有任何疑问想要和我们交流、探讨,不要犹豫,请直接联系我们。

获取报价与交期

本次咨询咨询产品:13.5nm菲涅尔波带片该信息会随表单一并提交

请至少填写电话或邮箱中的一项