13.5nm 极紫外施瓦茨希尔德（Schwarzschild）物镜

北京众星联恒科技有限公司至今在X射线与极紫外（EUV）领域已经有近十年的深耕积累，以及对EUV光学技术发展趋势和中国市场需求有较为深入理解。而和众星联恒一样在2013年成立德国optiXfab公司，专注于商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万片高性能极紫外、X射线镜片，其中大多数都是半导体、航天工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等关键光学组件，拥有丰富的产业化经验和成熟的制造工艺。基于双方长期、深入的技术交流与市场研判，我们达成了深度合作并决定将这一经过半导体工业验证的先进镀膜技术进一步拓展至科研应用领域，双方联合推出适用于13.5 nm波段的高性能Mo/Si多层膜反射镜产品，涵盖1英寸和1/2英寸等标准规格。该系列产品可广泛应用于HHG光源、激光驱动等离子体光源、EUV成像、EUV计量与EUV光谱等前沿研究方向同时，相关产品已在中国本地建立库存，可实现快速响应与交付，为用户的科研项目提供更加高效、便捷的支持。

   Schwarzschild 物镜因其大孔径、高机械稳定性和无色差的特点而越来越多地用于 EUV 光谱区域的成像光学器件。 EUV Schwarzschild 物镜由Mo/Si多层膜的主镜子和次镜组成，在其上可以使用球面和非球面。 光学元件无应力，并使用固态铰链进行机械稳定安装。 可以在操作期间对镜子进行校正调整。