XUV多层膜高反射率镜（大于13.5nm）
对于大于13.5nm的XUV波段对于高次谐波、天文学、x射线激光以及其他应用来说都非常重要。特别是高次谐波，如阿秒动力学测量、角分辨光电子能谱和双光子吸收等基础研究。在这个波段我们可以提供灵活且有反射率保证的镀膜设计以用于HHG光源谐波挑选、聚焦等应用。
型号: 定制
品牌: optiX fab.
产品介绍
得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注，近10年的积累，对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术，至今已经给客户生产了近2万多片镜片，中大多数都是半导体工业的客户，如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切，我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG，激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用，针对中国市场联合推出的1/0.5英寸的高性能13.5nm多层膜镜片，并在中国办公室备有库存，以实现镜片的快速交付。同时把EUVL级别镀膜技术带到中国基础科研市场，并可以提供灵活的定制服务，以满足前沿科学研究的特种要求。
对于大于13.5nm的XUV波段对于高次谐波、天文学、x射线激光以及其他应用来说都非常重要。特别是高次谐波，如阿秒动力学测量、角分辨光电子能谱和双光子吸收等基础研究。在这个波段我们可以提供灵活且有反射率保证的镀膜设计以用于HHG光源谐波挑选、聚焦等应用。
特征优势
规格参数
典型基底规格
| 参数 | 平面基底 | 球面基底 |
| 材料 | fused silica | fused silica |
| 尺寸 | 25.4 -0.1 mm/12.7-0.1 mm | 25.4 -0.1 mm/12.7-0.1 mm |
| 厚度 | 6.35 ±0.25 mm | 6.35 ±0.25 mm |
| 面形精度 | λ/20 @ 632.8 nm PV | λ/20 @ 632.8 nm PV |
| 表面粗糙度 | σ< 0.2 nm rms | σ< 0.2 nm rms |
| 曲率半径 | - | 500 mm (± 1 %) |
典型多层膜设计反射率实测
HHG谐波挑选
XUV单色仪
等离子光源分析
天文观测
咨询时，请告知以下事项
● 中心波长
● 反射带宽 (FWHM)
● 所需的最小反射率、
●入射角
●偏振
●基底尺寸和形状
● 数量
典型应用
关于众星联恒和optiX fab
德国optiX fab是Fraunhofer IOF孵化的衍生公司，成立于2013年，旨在商业化Fraunhofer IOF的XUV/软、硬X光学器件的研究和开发活动，致力于设计，开发和制造各类多层膜镜。optiXfab已经为全球高端制造商以及研究所、大学、同步辐射客户提供定制的用于XUV/软、硬X光光谱范围内的多层膜和掠入射光学器件。众星联恒联合optiXfab，为中国用户提供所有售前咨询，销售及售后服务。同时，众星联恒作为一家前沿EUV-X射线领域服务及解决方案提供商，目前已储备一定规模的EUV与X射线相关设备与核心部件库存，具备快速交付能力，以更好地服务我们的用户。同时我们创建了设施完善的X射线开放实验室，配备了多套先进的X射线光源系统、光学元件以及探测器，可支持包括X射线成像、相衬成像、衍射分析、荧光检测以及X射线源性能表征在内的多样化的测试、预研和论证工作。
我们是一支对于极紫外、X射线技术充满热情的团队，如果你有任何疑问想要和我们交流、探讨，不要犹豫，请直接联系我们。
