产品选型高分辨质谱仪辉光放电质谱仪射频辉光放电质谱仪GD90 Trace-RF

射频辉光放电质谱仪GD90 Trace-RF

MSI GD90 Trace 是一款面向高纯材料、先进材料及痕量杂质分析的高分辨辉光放电质谱仪(GDMS)。​通过辉光放电直接对固体样品进行溅射、原子化和电离,并结合高分辨双聚焦磁质谱分析,GD90 Trace 能够在一次扫描中覆盖从主量成分到 ppb / sub-ppb 级超痕量杂质的多元素分析。​无需常规化学消解,既适用于高纯金属、合金和半导体材料,也可扩展至粉末、氧化物、薄膜、镀层及多层材料分析。

GDMS

型号: GD90 Trace-RF
品牌: MSI

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产品介绍

MSI GD90 TRACE SERIES
GD90 TraceDC →
GD90 Trace RFDC + RF

MSI GD90 Trace RF是基于 GD90 Trace 高分辨双聚焦磁质谱平台, 并进一步集成自动化 RF 辉光放电系统的高分辨辉光放电质谱仪。 系统同时提供DC 与 RF 两种辉光放电模式, 将成熟的高纯金属分析能力进一步拓展至更加广泛的先进材料应用。

GD90 Trace RF 保留 GD90 Trace 高分辨、宽动态范围、 直接固体进样及深度分析等核心质谱性能, 同时针对非导电材料提供更加灵活的辉光放电选择。 用户可根据材料导电性、样品状态及具体分析目标, 在 DC 与 RF 工作方式之间选择适合的分析方案。

仪器可在一次分析中覆盖从主量成分到 ppm、ppb 乃至 sub-ppb 级超痕量元素, 适用于高纯材料、金属及合金、氧化物、先进无机材料、 半导体相关材料、薄膜、镀层及多层复合材料等应用场景。

DC + RF
双模式辉光放电
<400 ~ >10,000 RP
连续可调质量分辨率
10% Valley Definition
ppb / sub-ppb
痕量及超痕量分析能力
最高约 12 Orders
宽线性动态范围
从高纯金属到非导电先进材料
GD90 Trace RF 并不是另一套质量分析器, 而是在成熟的 GD90 Trace 高分辨质谱平台上增加 RF 辉光放电能力。 因此,它既能够完成传统 DC-GDMS 分析, 又为氧化物、陶瓷及其他非导电先进材料提供更加灵活的放电方式, 更适合样品体系复杂、材料类型跨度较大的综合材料分析实验室。

为什么需要 RF-GDMS?

传统 DC 辉光放电要求分析体系形成适当的直流放电条件, 因此高纯金属、合金等导电材料是 DC-GDMS 最典型的分析对象。

对于氧化物等非导电材料, 传统 DC-GDMS 可以通过将样品安装或压制在高纯导电辅助载体上的方式完成分析。 这种方法成熟且仍然具有实际应用价值。

随着先进材料体系不断扩展, RF 辉光放电为非导电材料提供了另一种放电方案。 GD90 Trace RF 将自动化 RF 系统集成到 GD90 Trace 平台, 同时保留 DC 工作模式, 从而使一台仪器能够面向更加多样化的材料体系。

FLEXIBLE SOURCE PLATFORM
一个平台,两种放电方式
导电材料可继续采用成熟 DC-GDMS 方法, 对非导电及特殊先进材料则可以根据具体应用选择 RF 分析方案。

高分辨 GDMS 直接固体分析

辉光放电质谱GDMS(Glow Discharge Mass Spectrometry)利用辉光放电对固体样品进行连续溅射, 被溅射出的原子进入等离子体后发生电离, 随后进入高分辨双聚焦质量分析系统进行分离和检测。

与传统湿法消解方式相比, GDMS 直接分析固体样品, 可以减少复杂化学前处理以及由试剂、容器和样品稀释造成的潜在污染。 同时,由于原子化与电离过程相对独立, GDMS 基体效应较小, 可结合标准 RSF 数据进行多元素定量分析。

核心分析能力

01 / DC + RF
DC / RF 双模式
在成熟 DC-GDMS 基础上增加自动化 RF 放电能力, 可根据不同材料和应用选择适合的辉光放电方案。
02 / DIRECT SOLID ANALYSIS
直接固体分析
减少传统酸消解及溶液制备过程, 降低复杂样品前处理带来的污染和稀释风险。
03 / HIGH RESOLUTION
高分辨双聚焦质谱
<400 至 >10,000 RP 连续可调分辨率, 用于处理复杂材料中的潜在质谱干扰。
04 / TRACE ANALYSIS
主量到超痕量
在统一分析平台中覆盖高含量基体元素以及 ppm、ppb 和 sub-ppb 级杂质。
05 / WIDE DYNAMIC RANGE
最高约 12 个数量级
Ion Counter 与 Faraday 检测体系满足 高含量基体和低浓度杂质同时分析的需求。
06 / DEPTH PROFILING
深度方向分析
用于薄膜、镀层、多层复合材料、界面、 表面污染及失效分析。

更广泛的材料适应能力

GD90 Trace RF 尤其适合实验室样品类型跨度较大、 同时存在导电和非导电材料分析需求的应用环境。

高纯金属
Cu、Al、Ti、Ta、W、Ni、Mo 等高纯和超高纯金属
合金材料
钢铁、镍基合金、钛合金、铝合金、铜合金及特种合金
氧化物及非导电材料
RF 模式进一步拓展非导电无机材料及复杂先进材料的 GDMS 应用
陶瓷与先进无机材料
面向先进陶瓷、功能无机材料及相关研发应用提供更多分析选择
半导体及电子材料
Si、晶圆、靶材、高纯电子材料及相关功能材料
薄膜、镀层与多层材料
功能薄膜、表面镀层、多层结构及复杂材料界面
粉末及特殊形态样品
粗粉、细粉、颗粒、薄箔、丝材、切屑及其他不规则固体
TIME RESOLVED ANALYSIS / DEPTH PROFILING

从元素含量进一步获得深度分布

通过连续记录辉光放电溅射过程中不同时间点的元素信号, GD90 Trace RF 可研究元素随材料深度的变化趋势。 采用 Flat Geometry GD Source, 可用于薄膜、镀层、多层材料、表面污染、 界面迁移及失效分析。 分析后结合轮廓仪测量溅射坑实际深度, 可建立元素变化与真实材料位置之间的对应关系。
典型优化深度范围
0.1 – 10 μm
实际分析深度可根据工作条件和材料体系进行优化。

高分辨质谱平台 + 灵活辉光放电

自动化 RF 系统
在标准 GD90 Trace 平台上增加自动化 RF 辉光放电, 并保留 DC 工作方式。
双聚焦磁质谱平台
静电分析器和磁分析器组成高分辨双聚焦质量分析系统, 提供最高 >10,000 RP 的质量分离能力。
钽制 GD Cell 与离子源
源部件采用钽材料结构, 兼顾高纯分析及后续清洁维护需求。
Pin / Flat 样品结构
支持不同样品几何形式, 满足常规纯度分析、表面及深度分析应用。

典型应用

高纯材料分析
高纯及超高纯材料中的痕量、超痕量杂质分析。
非导电先进材料
氧化物、陶瓷及其他非导电无机材料的元素组成研究。
半导体与电子材料
面向高纯原材料、靶材、晶圆及相关电子材料的杂质控制。
薄膜与镀层
获取薄膜、表面镀层及多层材料的元素组成及深度信息。
新材料研发
面向材料体系复杂、缺少充分标准物质的新型无机材料研究。
污染与失效分析
研究异常元素、表面污染及元素在界面和深度方向上的变化。

主要技术参数

产品型号GD90 Trace RF
分析技术高分辨辉光放电质谱 HR-GDMS
质量分析器双聚焦磁扇形质量分析器
辉光放电模式DC + RF
样品引入直接固体分析
质量分辨率<400 ~ >10,000 RP,连续可调
分辨率定义10% Valley Definition
分析浓度范围主量元素至 ppb / sub-ppb 超痕量元素
检测系统Ion Counter + Faraday
线性动态范围最高约 12 个数量级
导电材料支持 DC 分析
非导电材料支持相应 DC 制样方案及 RF 分析方案
样品结构Pin / Flat 等多种样品结构
深度分析Time Resolved / Depth Dependent Analysis
定量方式支持基于 RSF 的定量分析
GD Cell 冷却可配置低温冷却
* 实际检测限及分析性能与目标元素、样品基体、样品状态、DC/RF 工作方式及具体分析条件有关。
如何选择 GD90 Trace 系列?
GD90 Trace
DC-GDMS
主要面向高纯金属、合金、靶材及其他导电材料。 如果日常分析对象以这些材料为主, DC 版本即可提供成熟完整的 GDMS 能力。
GD90 Trace RF
DC + RF
如果非导电材料也是重要日常分析对象, 或实验室需要覆盖更加复杂的材料体系, DC/RF 双模式能够提供更大的应用灵活性。

关于 MSI

MASS SPECTROMETRY INSTRUMENTS LTD
专注高性能磁扇形双聚焦质谱技术

Mass Spectrometry Instruments Ltd(MSI)是一家位于英国西约克郡的专业质谱仪器制造商, 长期专注于高性能磁扇形双聚焦质谱仪的设计、制造、应用与技术支持, 产品技术覆盖有机及无机分析领域。

MSI 的高分辨质谱技术体系传承自Kratos Analytical。 Kratos 于 1957 年开始推出商业化磁扇形质谱仪, 在高精度、高分辨磁质谱及离子光学领域积累了长期技术基础。 MSI 于 1994 年成立,并在这一技术体系基础上持续发展现代高分辨双聚焦质谱平台。

2010 年,MSI 将其高分辨磁质谱技术进一步拓展至无机元素分析领域, 开发辉光放电质谱GDMS(Glow Discharge Mass Spectrometry)系统。 如今,高分辨 GDMS 已成为 MSI 的核心技术方向之一, GD90 Trace 则是其面向直接固体元素分析、痕量及超痕量杂质分析的重要产品平台。

1957
技术传承起点
Kratos Analytical 开始推出商业化磁扇形质谱仪, 奠定高性能磁质谱及离子光学技术基础。
1994
MSI 成立
MSI 成立并持续发展高性能双聚焦磁扇形质谱仪, 将传统高分辨磁质谱技术与现代仪器控制相结合。
2010
进入 GDMS 领域
MSI 将高分辨磁质谱技术拓展至无机元素分析领域, 开发辉光放电质谱系统,用于材料直接固体元素分析。
持续聚焦高分辨磁质谱
与追求庞大产品线不同,MSI 长期围绕高性能双聚焦磁质谱这一核心技术平台持续投入。 从离子光学、静电分析器和磁分析器,到检测系统、仪器电子学、辉光放电离子源及应用方法, 各核心部分围绕高分辨、高灵敏度和复杂样品分析需求进行持续开发。
MSI PHILOSOPHY
Taking Mass Spectrometry
to the Next Level
持续投资新的仪器技术与应用, 推动高性能质谱技术在科研及工业分析中的进一步发展。
从仪器制造到长期技术支持
MSI 最初即以质谱仪器服务与技术支持业务为基础发展, 并逐步进入完整仪器生产。 因此,售前技术交流、应用支持以及仪器全生命周期服务, 始终是 MSI 产品体系的重要组成部分。

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