新一代高分辨辉光放电质谱仪--GD90 Trace
MSI GD90 Trace是一款面向高纯材料、先进材料及痕量杂质分析的高分辨直流辉光放电质谱仪（HR-DC-GDMS）。 仪器采用高性能双聚焦磁质谱平台，将辉光放电直接固体进样与高分辨质量分析相结合， 可在一次扫描中覆盖从主量成分到 ppm、ppb 乃至 sub-ppb 级超痕量杂质的多元素分析。
型号: GD90 Trace
品牌: MSI
产品介绍
MSI GD90 Trace是一款面向高纯材料、先进材料及痕量杂质分析的高分辨直流辉光放电质谱仪（HR-DC-GDMS）。 仪器采用高性能双聚焦磁质谱平台，将辉光放电直接固体进样与高分辨质量分析相结合， 可在一次扫描中覆盖从主量成分到 ppm、ppb 乃至 sub-ppb 级超痕量杂质的多元素分析。
GD90 Trace 以成熟的DC 辉光放电为核心分析模式，尤其适用于高纯金属、合金、半导体原材料、 靶材及其他导电固体材料。 对于部分氧化物及其他非导电材料，也可以通过导电辅助载体采用 DC 模式进行分析。
与需要将固体样品进行酸消解和溶液制备的分析技术相比， GDMS 可直接对固体材料进行分析， 减少复杂湿化学前处理以及试剂、容器和稀释过程可能引入的污染。 较小的基体效应使 GDMS 可以结合RSF（Relative Sensitivity Factor，相对灵敏度因子）进行多元素定量分析。
GDMS 直接固体分析技术
辉光放电质谱GDMS（Glow Discharge Mass Spectrometry）是面向固体材料元素组成及痕量杂质分析的重要直接固体质谱技术。 分析过程中，待测样品作为辉光放电体系的一部分， 在低压惰性气体环境中受到离子轰击， 样品表面的原子被逐步溅射进入等离子体，并进一步发生电离。
生成的离子经离子光学系统进入静电分析器和磁分析器， 根据质荷比进行高分辨分离， 最终根据离子信号强度由相应检测器完成测量。 由于溅射、原子化和电离过程具有相对独立的特点， GDMS 的基体效应较小，可使用标准 RSF 数据进行多元素分析。
核心分析能力
适合哪些材料？
从常规合金到 >9N 高纯材料， GD90 Trace 可以处理不同纯度、基体及样品形态。 对于 DC-GDMS，导电材料是最典型、最成熟的应用对象。
不只是测量整体含量
为高性能 GDMS 分析而设计
典型应用
主要技术参数
| 产品型号 | GD90 Trace |
| 分析技术 | 高分辨直流辉光放电质谱 HR-DC-GDMS |
| 质量分析器 | 双聚焦磁扇形质量分析器 |
| 辉光放电模式 | DC |
| 样品引入 | 直接固体分析 |
| 质量分辨率 | <400 ～ >10,000 RP，连续可调 |
| 分辨率定义 | 10% Valley Definition |
| 分析浓度范围 | 主量元素至 ppb / sub-ppb 超痕量元素 |
| 检测系统 | Ion Counter + Faraday |
| 线性动态范围 | 最高约 12 个数量级 |
| 样品结构 | Pin / Flat |
| 非导电材料 | 可采用高纯导电辅助载体进行 DC 分析 |
| 深度分析 | Time Resolved / Depth Dependent Analysis |
| 定量方法 | 支持基于 RSF 的定量分析 |
| GD Cell 冷却 | 可配置低温冷却 |
关于 MSI
Mass Spectrometry Instruments Ltd（MSI）是一家位于英国西约克郡的专业质谱仪器制造商， 长期专注于高性能磁扇形双聚焦质谱仪的设计、制造、应用与技术支持， 产品技术覆盖有机及无机分析领域。
MSI 的高分辨质谱技术体系传承自Kratos Analytical。 Kratos 于 1957 年开始推出商业化磁扇形质谱仪， 在高精度、高分辨磁质谱及离子光学领域积累了长期技术基础。 MSI 于 1994 年成立，并在这一技术体系基础上持续发展现代高分辨双聚焦质谱平台。
2010 年，MSI 将其高分辨磁质谱技术进一步拓展至无机元素分析领域， 开发辉光放电质谱GDMS（Glow Discharge Mass Spectrometry）系统。 如今，高分辨 GDMS 已成为 MSI 的核心技术方向之一， GD90 Trace 则是其面向直接固体元素分析、痕量及超痕量杂质分析的重要产品平台。
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