利用聚焦电子束在涂有电子敏感抗蚀剂（如PMMA）的基底上直写图案。当电子束照射抗蚀剂时，会引起分子链断裂或化学变化，从而改变抗蚀剂的溶解特性。经过显影处理后，未被曝光或被曝光的部分会被去除，形成所需的微纳结构。它以极高的分辨率著称，适用于制作微小且复杂的纳米结构。

Raith/Vistec EBPG 5000Plus 电子束光刻机

  • 高精度加工，最小特征尺寸可达10nm

  • 适用于各种薄膜基底（如Si、Si₃N₄、SiC、金刚石）上的纳米结构制造

  • 支持4英寸晶圆加工

KIT/IMT）EBPG5200Z 电子束光刻系统

  • 最高精度与分辨率结合快速图案化能力

  • 能够制作特征尺寸小至100nm、高度达2µm的微结构

  • 模式放置极其精确，误差小于100nm，适用于大面积（数厘米）范围


典型应用

  • X射线掩模的设计与制造

  • 小周期X射线光栅的高性能要求

  • 高分辨率菲涅尔波带片和其他精密纳米结构