双光子灰度光刻是一种基于非线性光学效应的微纳加工技术。其原理是利用高强度飞秒激光，使材料中的光敏分子同时吸收两个低能量光子（总能量等于单光子吸收的能量），从而引发聚合反应。由于双光子吸收仅发生在激光焦点处的高能密度区域，能够通过逐层构建实现复杂形状的高精度制造。因此可以实现三维精密结构的制造。

Nanoscribe GT 设备

  • 全3D制造能力，最小特征尺寸小于200nm。

  • 支持多种材料，包括可选铝氧化物涂层以提高分辨率和对比度。

  • 从设计到成品的一站式服务

Nanoscribe Quantum X 设备

  • 最新技术，结合灰度光刻的卓越性能与双光子聚合（2PP）的精度和灵活性。

  • 无掩模光刻系统，适合各种2.5D结构的工业制造。


典型应用

  • 表面图案、平面微光学器件（包括自由曲面透镜和微透镜阵列）。

  • 多级衍射光学元件。

示例微结构

  • 高纵横比微透镜阵列：50µm

  • 菲涅尔透镜：100µm