极紫外激光干涉光刻是一种利用极紫外光（通常波长为13.5nm）与干涉光学技术结合的先进微纳加工方法。通过两束或多束相干极紫外激光的干涉，形成周期性强度分布的光场，直接曝光光刻胶，在基底上生成纳米级高精度图案。适合大面积周期性结构的高效制造。

Phable R200 光刻机

  • 最小特征尺寸为60nm，适合大面积周期性结构的图案化。

  • 支持8英寸晶圆加工，曝光均匀性优于3%。

  • 提供前侧对准和手动叠加对准功能，确保高精度加工。


典型应用

  • 大面积纳米图案光刻，适用于大规模生产

  • 衍射光栅和其他周期性结构的制造