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由EUV Litho, Inc.、ARCNL 和 CH3IP联盟联合主办的2024 Source Workshop研讨会将在今年10月19日至23日于荷兰阿姆斯特丹举行。本届会议重点关注与极紫外 (EUV) 和软 X 射线源相关的最新科学和技术发展，并为该领域的研究人员和最终用户提供论坛来展示他们的工作成果并讨论广泛的潜在应用。

本次Source Workshop研讨会期间，EUV Litho, Inc.还组织了两场线上的短期课程，分别聚焦EUVL及EUV and Soft X-ray Sources。

EUV Litho, Inc. 由Vivek Bakshi博士创立，是一家致力于通过咨询、研讨会和教育课程推广 EUV 光刻的组织，负责组织年度 EUVL 研讨会、EUV 和软 X 射线源国际研讨会以及全球 EUVL 短期课程。


本次研讨会中，众星联恒的合作伙伴德国optiX fab.公司和荷兰Isteq公司将延续去年，深度参与本次研讨会。来自 optiX fab.公司的 CEO -Torsten Feigl 接受邀约即将在会场作专题报告；Isteq公司则派出两位代表进行演讲，其中 Konstantin Koshelev博士也应邀参与专题报告，我们殷切期盼他们所带来的知识盛宴。

此外，今年我们迎来了另一位合作伙伴捷克Rigaku公司的倾情加盟，Ladislav Pina博士将为与会者作出一场精彩的受邀演讲，请敬请期待！

Source Workshop/1

 October 19-23 

  • 会议时间：2024年10月19日~23日

  • 会议形式：线下

  • 会议地点：ARCNL, Amsterdam, Netherlands

    Science Park 106, 1098 XG Amsterdam, The Netherlands

Short Courses/2

 October 19-20 

  • 会议时间：2024年10月19日至20日

  • 会议形式：线上

  • EUV Lithography Short Course

本课程为学员全面概述了 EUV 光刻的基础知识、现状和技术挑战。涵盖的主题包括 EUV 光源、EUV 光源计量、EUV 光学、EUV 系统和图案以及 EUV 掩模。

  • EUV & Soft X-Ray Sources - Source Short Course

这个关于 EUV 和软 X 射线源的短期课程将概述与 EUV 光刻以及 EUV 和软 X 射线等离子体源相关的基础物理学。




合作伙伴介绍

荷兰 ISTEQ  Group坐落于埃因霍温的高科技园区，在开发和制造各种类型的尖端产品方面拥有广泛的专业技术与丰富的经验。ISTEQ Group 致力于为各种工业应用尤其是半导体、材料分析和光谱学应用开发广泛的现成解决方案，公司产品包括：激光驱动等离子体白光光源，DPP/LPP EUV光源、用于 X-ray/EUV/VUV 波段的定制化光谱仪及等离子体诊断设备。

德国optiX fab是Fraunhofer IOF孵化的附属（衍生）公司，成立于2012年，旨在商业化Fraunhofer IOF的EUV光学研究和开发活动，致力于设计，开发和制造各类EUV镜。optiX fab为全球芯片制造商、EUV工具和光源制造商以及研究所、大学、同步辐射和全球的EUV研究客户提供定制的用于13.5nm EUV光刻及整个XUV/软硬X光光谱范围内的多层膜和掠入射光学器件。

捷克Rigaku Innovative Technologies Europe s.r.o.配有多个专业的X射线实验室，是日本理学在欧洲的 X 射线光学镜片设计、开发和制造中心。RITE研发团队掌握了先进独特的光学复制技术，提供高精度、高性能的EUV/X-RAY反射式光学镜片，X射线高分辨间接探测器及定制型解决方案，满足光刻和高分辨显微成像等应用。


“ 北京众星联恒科技有限公司为中国客户提供所有相关产品的售前咨询，销售及售后服务。我司始终致力于为广大科研用户提供专业的 EUV、X 射线产品及解决方案。如果您有任何问题，欢迎联系我们进行交流和探讨！ ”






 内容   小乔

 编辑   小乔






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