Phase I of Blue-X · TWG研讨会|Plan B for Extension of EUVL

2024年由EUV Litho, Inc.、ARCNL 和 CH³IP联盟联合主办的 2024 Source Workshop研讨会 在今年10月23日于荷兰阿姆斯特丹圆满落幕。我们的合作伙伴德国optiX fab. 、荷兰Isteq和捷克Rigaku公司也在会议中为我们带来了精彩的报告演讲，携参会人员共同给EUV领域带来了最新的成果展示和未来启发。

Blue-X （2-7nm）作为光刻技术在更短波长的扩展，已被提议作为超数值孔径光刻技术的“Plan B”，这个在未来光刻技术具有巨大潜力的技术联盟也在会议期间正式成立。EUV Litho Inc. 已于近日宣布 Blue-X 第一阶段计划正式开启。

在第一阶段，EUV Litho Inc. 正式成立Blue-X 技术工作组 (TWG)，并在光源、光学、掩膜、成像和抗蚀剂等领域成立了分小组。该组目前有19个组织成员，包括芯片制造商、OEM制造商、一所实验室。这些成员已指派约 45 名专业人员参与工作组。此外，至少还有20份的入会申请仍在源源不断地增加。