一篇看懂半导体材料在传感器制造中的应用 - PART 2.
延续上一篇章对硅材料的分析,让我们开展对第二种半导体材料:砷化镓的介绍。
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延续上一篇章(《一篇看懂半导体材料在传感器制造中的应用 - PART 1.》)对硅材料的分析,让我们开展对第二种半导体材料:砷化镓 的介绍。
砷化镓传感器的生产制造

75mm的砷化镓晶圆
砷化镓(GaAs)是一种由镓(Ga)和砷(As)原子组成的化合物半导体材料。GaAs可制成小尺寸 (50 mm) 到中尺寸 (150 mm) 晶圆;该材料有不同等级的市场;其价格实惠;与Cd(Zn)Te相比,砷化镓是一种均匀稳定的复合半导体材料。它可用于中能辐射成像和跟踪的成像传感器材料。对于20-80 keV之间的X射线成像和200 keV以上的电子成像,砷化镓具有良好的吸收效率。
目前砷化镓传感器已广泛应用于工业无损检测、电脑断层CT扫描、空间辐射计量学、X射线衍射等领域。
2.1
GaAs传感器的应用
砷化镓(GaAs)传感器用于检测中等能量范围内的 X 射线、γ射线和电子,而Si传感器对于中等能量范围内射线的吸收效率不足。GaAs传感器具有高电子迁移率、高灵敏度、高密度、低能 X 射线荧光光子和抗辐射等优势,适用于各种应用。以下是使用GaAs传感器的一些典型能量范围和应用:
● 中能 X 射线:GaAs 传感器可有效检测和测量高达60-80 keV的X射线(具体取决于传感器厚度)。这包括医疗软组织 X 射线成像、材料无损检测、小动物成像、X 射线衍射、X 射线光谱和伽马射线检测等应用。

● 高能电子:GaAs 传感器由于较高的密度,对于在几 keV 到几 MeV 能量范围内的电子,可以对其进行有效检测和测量。这包括透射电子显微镜 (TEM) 和电子能量损失谱 (EELS) 等应用。
● 中能粒子:GaAs 传感器也用于中能范围内的加速粒子检测,通常在数十兆电子伏 (MeV) 范围内。GaAs 传感器用于辐射检测和测量,应用领域包括放射治疗、核医学、放射性物质的环境监测、高能物理和宇宙射线实验。
● 高能粒子:GaAs 传感器用于高能物理实验,例如粒子对撞机和宇宙射线实验,这些实验中探测的粒子能量范围从数十亿电子伏特 (GeV) 到数万亿电子伏特 (TeV)。砷化镓传感器能够跟踪和测量这些实验中产生的高能粒子。
2.2
自然界中的砷化镓


金属镓与砷黄铁矿
砷化镓 (GaAs) 并非自然存在于地壳中。它是一种人工合成化合物,而不是自然产生的。镓 (Ga) 和砷 (As) 都是自然界中可以找到的元素,但它们并不以 GaAs 这样的形式存在。镓是一种相对稀有的元素,通常是开采和精炼其他金属(如铝和锌)的副产品。而砷则更为丰富,可以在各种矿石中找到,例如砷黄铁矿和雄黄。
GaAs 属于 III-V 族半导体,这意味着它是由元素周期表中的 III 族(镓)和 V 族(砷)元素形成的。GaAs是一种直接带隙半导体,这意味着它可以有效地吸收光子并将其转换为电信号。
镓 (Ga):镓是一种柔软的银色金属,原子序数为31。它是一种后过渡金属,以其低熔点而闻名,这使其在某些应用中非常有用。砷 (As):砷是一种原子序数为33的准金属元素。它以其毒性而闻名,但以化合物形式(例如砷化镓),其化学性质稳定且处理安全。砷有助于GaAs的半导体特性,包括其能带结构和导电性。
2.3
GaAs的生长方法
半导体级 GaAs 采用不同的技术生长成锭。生长技术对杂质数量有很大影响。GaAs 晶体生长采用多种方法,包括:
● 垂直布里奇曼法 (VB):在 VB 法中,将高纯度 GaAs 原料放入密封的安瓿瓶或坩埚中。加热安瓿瓶,使 GaAs 熔化。将 GaAs 晶种浸入熔融材料中,安瓿瓶通过温度梯度缓慢地向上或向下(垂直)移动。随着安瓿瓶的移动,由于缓慢的冷却过程,GaAs 晶体在晶种上生长。所得晶体是圆柱形的单晶锭。
● 液封直拉法 (LEC):LEC 法涉及与用于硅晶体生长的直拉法类似的工艺。在该方法中,高纯度 GaAs 原料在坩埚中熔化。GaAs晶种浸入熔融材料中,并在旋转的同时缓慢地从熔体中抽出。当晶种被拉出时,GaAs会在晶种表面结晶,形成单晶锭。熔融的 GaAs 被“封装”在液态砷化镓溶液中,以提供受控的晶体生长条件。
● 垂直梯度凝固法(VGF) 用于生长砷化镓 (GaAs) 晶体。在这种技术中,高纯度 GaAs 原料在坩埚中熔化。将晶种插入熔融材料中,并在保持受控温度梯度的同时缓慢提升或移动坩埚。随着温度下降,熔融的 GaAs 在晶种上凝固,从而生长出单晶 GaAs 锭。与其他方法相比,VGF方法可以生产更大的GaAs晶体。



关于Advafab - GaAs
Advafab 的产品涵盖在 3 英寸(75 毫米)、厚度为 500 微米的高电阻率 GaAs 晶片上制造的像素、微带和二极管传感器。光谱成像传感器的 GaAs 晶片制备依赖于内部开发的高阻 GaAs 晶片的铬补偿。使用此方法可以获得晶片上均匀的辐射响应。
由于 GaAs 的高电阻率,该传感器基本上没有边缘,可以用来并排平铺各个传感器,而不会在平铺之间留下无效间隙。

拓展阅读
内容 Brick
审核 Yee
编辑 小乔

