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    光栅

    • 品牌Microworks
    • 型号Grating
    • 产地德国

    公司介绍:德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术,Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域,Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片,其最高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近

    1. 基本信息
    2. 技术参数
    3. 应用案例
    4. 资料/文献

    公司介绍:

    德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术,Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域,Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片,其最高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近红外滤波器(选频滤波器)、微弹簧,RF等。

     

    产品介绍:

    X射线光栅的制作流程 

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    吸收光栅

    (a)准备光栅胶层

    (b)掩膜光刻胶层在X射线下曝光

    (c)形成精细的光刻胶结构

    (d)电镀金形成X射线光栅结构 

                


    产品特点:

    • 高纵横比结构

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    •  极小周期

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    • 大面积X射线

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       标准结构面积

       4英寸基板: 70~90mm的直径

       6英寸基板:高达110mm(在某些情况

                   有限制)


       更大尺寸选项

       拼接多个光栅面板

       在单个制作工艺上扩大结构面积(研发)



    • 弯曲光栅

        椎束照射高纵横比光栅,为了避免影像影响,可采用弯曲光栅,可使用特殊的夹具来运输

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    主要应用:

    • 用于Talbot干涉仪的X射线光栅

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    微焦源Talbot干涉成像仪

    光源:微焦X射线管

    E=25keV

    加速电压:40KV

    电流:120 μA

    G1:周期4.37 μm(Ni)

    G2: 周期2.4μm(Au)





    在SR装置BL-14C线站的Talbot干涉实验

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    E=17.8 keV

       Al 滤片 2.0 mm


    G1:周期 2.4 μm (Ni)

    G2:周期 2.4 μm (Au)



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