硬/软X射线光栅

X射线相衬成像光栅

公司介绍:德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术,Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域,Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片,其高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近

  • 产地: 德国
  • 型号: Grating
  • 品牌: Microworks

公司介绍:

德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术,Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域,Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片,其高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近红外滤波器(选频滤波器)、微弹簧,RF等。

 

产品介绍:

X射线光栅的制作流程 

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吸收光栅

(a)准备光栅胶层

(b)掩膜光刻胶层在X射线下曝光

(c)形成精细的光刻胶结构

(d)电镀金形成X射线光栅结构 

            


产品特点:

  • 高纵横比结构

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  •  极小周期

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  • 大面积X射线

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   标准结构面积

   4英寸基板: 70~90mm的直径

   6英寸基板:高达110mm(在某些情况

               有限制)


   更大尺寸选项

   拼接多个光栅面板

   在单个制作工艺上扩大结构面积(研发)



  • 弯曲光栅

    椎束照射高纵横比光栅,为了避免影像影响,可采用弯曲光栅,可使用特殊的夹具来运输

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主要应用:

  • 用于Talbot干涉仪的X射线光栅

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微焦源Talbot干涉成像仪

光源:微焦X射线管

E=25keV

加速电压:40KV

电流:120 μA

G1:周期4.37 μm(Ni)

G2: 周期2.4μm(Au)





在SR装置BL-14C线站的Talbot干涉实验

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E=17.8 keV

   Al 滤片 2.0 mm


G1:周期 2.4 μm (Ni)

G2:周期 2.4 μm (Au)



北京众星联恒科技有限公司德国 Microworks X射线光栅、微结构-Flyer.pdf


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