X射线纳米成像测试卡（0.01-4μm）
常规X射线成像很大程度上依靠便捷的工具来评估各检测系统的性能，其中最常用的就是分辨率测试卡。对于基于同步辐射的扫描X射线显微或者相干衍射成像（CDI）、甚至叠层相干衍射成像（PTY）的成像分辨率可以低至数纳米。使用我们专为高精度测试任务设计的X射线纳米测试卡（2D Resolution Test Target）探索无与伦比的精度
产品介绍
空间分辨率是 X射线成像图像质量的一项重要性能指标，其测试工作也是X射线成像设备性能测试的重要内容。线对卡法，是使用线对测试卡直接测试空间分辨率，由于操作方便、简捷而被广泛用于 实际工业 CT 或者基于同步辐射X成像系统的空间分辨率的测试中。对于基于同步辐射的扫描X射线显微或者相干衍射成像（CDI）、甚至叠层相干衍射成像（PTY）的成像分辨率可以低至数纳米。
使用我们专为高精度测试任务设计的X射线纳米成像测试卡（2D Resolution Test Target）探索无与伦比的精度。凭借针对Gold优化的基础结构，我们的目标提供从4μm到50nm的分辨率，确保了出色的细节。我们还根据要求提供低至10nm的铱结构，以满足那些寻求极高精度的要求。通过先进的设计与细致的纳米制造技术的碰撞，使得我们的测试卡可以提高您的成像进度。
我们有如下规格，以满足您的具体实验要求：
•50纳米Au：纯金结构，提供精确，高分辨率成像。
•30纳米Au/Ir Hybrid：混合材料增强细节。
•20纳米Au/Ir混合型：用于特殊成像需求的超精细结构。
•10纳米Au/Ir混合结构：我们为那些推动纳米级成像极限的最精确的结构。
图案布局
横截面图
规格参数
通用参数
品牌介绍
XRnanotech是一家源自瑞士保罗谢勒研究所（Paul Scherrer Institut）超过十余年前沿研究与开发成果的高科技企业，于2020年正式成立，致力于将纳米光学领域的突破性创新推向产业化应用。其中德国Mciroworks公司是XRnanotech的子公司，非常擅长使用LIGA技术，制造高深宽比微纳结构。
公司愿景是赋能全球光学仪器，使其充分发挥性能潜力，突破现有技术边界；使命则专注于开发与制造最高水平的纳米光学器件，在分辨率、效率、稳定性与结构设计等关键指标上实现极致优化。
其产品线包括：极紫外、X射线菲涅耳波带片、X射线相衬光栅、金刚石光学器件、X射线微纳米分辨率测试卡、超透镜和中子光栅等，应用领域涵盖X射线科学研究、材料分析、医学成像等多个前沿方向。凭借独特的 Ir-线倍增技术，XRnanotech 可以制造分辨率可低至<10nm的菲涅耳波带片，并提供各种材料，如金，镍，硅（二氧化硅），铱，铬甚至金刚石。
众星联恒作为瑞士XRnanotech公司中国区的独家代理，为中国用户提供所有售前咨询，销售及售后服务。同时，众星联恒作为一家前沿EUV-X射线领域服务及解决方案提供商，目前已储备一定规模的EUV与X射线相关设备与核心部件库存，具备快速交付能力，以更好地服务我们的用户。同时我们创建了设施完善的X射线开放实验室，配备了多套先进的X射线光源系统、光学元件以及探测器，可支持包括X射线成像、相衬成像、衍射分析、荧光检测以及X射线源性能表征在内的多样化的测试、预研和论证工作。
我们是一支对于极紫外、X射线技术充满热情的团队，如果你有任何疑问想要和我们交流、探讨，不要犹豫，请直接联系我们。
