X射线中心截补器 beamstop
基于成熟的LIGA技术，Microworks公司的光束截补器beamstop具有多功能、性价比高且性能优越等特点。用于1000nm到0.01nm波段（1eV到100keV）
产品介绍
用于1000nm到0.01nm波段（1eV到100keV）
由于特征尺寸可低至微米量级， X射线光刻技术已经成为一种极富吸引力的制造方法。来自德国的Microworks公司是推动LIGA技术发展的市场领导者， 可为客户提供最高质晕和最高精度且价格合理的高精度微结构。
基于成熟的LIGA技术，Microworks的光束截补器（beamstops）具有多功能、性价比高且性能优越等特点。用于波带片成像，beamstop尺寸从10μm到160μm。自支撑结构，由3个薄鳍边承载圆柱形光束截补器
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规格参数
| 吸收材料金厚度 | >80µm |
| Beamstop尺寸 | 10 µm to 160 µm，间隔10 µm |
| 开口尺寸 | 650 µm |
| 载体薄膜 | 自支撑结构，每个圆柱体由3个宽2.5µm的薄鳍支撑。 |
| 总尺寸 | 4.5mm*4.5mm |
| 安装建议 | 光束截止器非常稳定，可以使用简单支架夹持 |
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