X射线相衬、暗场成像套件
Talint EDU: 模块化、高性价比的X射线相衬、暗场成像套件X射线相位衬度成像和传统的X射线吸收成像相比，X射线相位衬度成像能够为轻元素样品提供更高的衬度，特别适合用于对软组织和轻元素构成的样品进行成像。目前，主要的5类相衬成像方式中，大部分对光源的相干性要求极高，只能在同步辐射光源或者借助微焦点X射线源实现。而光栅法相衬成像，经过十多年的发展，已经成为在实验室实施相衬成像实验的主流技术路线。
型号: Talint EDU
品牌: Microworks
产品介绍
Talint EDU: 模块化、高性价比的X射线相衬、暗场成像套件
X射线相位衬度成像和传统的X射线吸收成像相比，X射线相位衬度成像能够为轻元素样品提供更高的衬度，特别适合用于对软组织和轻元素构成的样品进行成像。目前，主要的5类相衬成像方式中，大部分对光源的相干性要求极高，只能在同步辐射光源或者借助微焦点X射线源实现。而光栅法相衬成像，经过十多年的发展，已经成为在实验室实施相衬成像实验的主流技术路线。但是，高深宽比和大视场光栅的制作一直是困扰研究人员的一个痛点，LIGA技术的出现及成熟，使得制作此类的光栅的制作变得更加的容易及可靠。
基于X射线相衬成像的光栅利用Talbot自成像效应来获取有关X射线因折射和散射而产生的微小角度偏转的信息。这在医学成像到材料研究等各个领域都有潜在的应用。但是对于刚进入这一研究领域的科研工作者或者想单纯快速相衬图片的用户来说，繁琐的光栅参数模拟、全新开模制作光栅价格昂贵、与此同时精密平移台的选择及精密调节都将耗费大量的精力。为了解决的这个问题，德国microworks公司推出了一套模块化、高性价比的X射线相衬、暗场成像套件——TALINT EDU
Microworks的TALINTEDU系统是一种紧凑、物美价廉的TALbot干涉仪套件。它是X射线Talbot-Lau干涉仪的巧妙简化形式，包括所有必要的硬件来建立和微调干涉仪，以及通过相位步进步骤来获得三种成像模式应用：吸收成像、相衬成像和暗场成像。
在不到半小时的时间内，它可以像另一个探测器一样容易安装。 对于这个简化的系统来说图 像采集是手动的，在相位步进过程中获得的图像非常适合于图像分析科学家。
特征优势
规格参数
Talint-EDU特征
光栅组特征
| 标准规格参数 | 设计能量-40 keV | 设计能量-21 keV |
|---|---|---|
| 光栅周期（3块弯曲光栅，G0,G1,G2） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光栅占空比 | 0.55（容差范围0.5-0.6） | 0.55（容差范围0.5-0.6） |
| G0 G2 光栅衬底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光栅占空比 | 0.5（容差范围0.45-0.55） | 0.5（容差范围0.45-0.55） |
| G1 光栅基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 视场范围（样品） | 35mm | 35mm |
| TALINT-EDU 为一维光栅对称结构，除上述标准光栅套组外，还可根据要求提供其他能量段，视场等定制光栅。 | ||
资料文献
找到 3 篇资料
Recent advances in X-ray imaging of breast tissue: From two- to three-dimensional imaging
Research paperX-ray phase imaging reaching clinical uses
Research paperPrinciples of Different X-ray Phase-Contrast Imaging: A Review
Research paper关于众星联恒和XRnanotech
XRnanotech是一家源自瑞士保罗谢勒研究所（Paul Scherrer Institut）超过十余年前沿研究与开发成果的高科技企业，于2020年正式成立，致力于将纳米光学领域的突破性创新推向产业化应用。其中德国Mciroworks公司是XRnanotech的子公司，非常擅长使用LIGA技术，制造高深宽比微纳结构。
公司愿景是赋能全球光学仪器，使其充分发挥性能潜力，突破现有技术边界；使命则专注于开发与制造最高水平的纳米光学器件，在分辨率、效率、稳定性与结构设计等关键指标上实现极致优化。
其产品线包括：极紫外、X射线菲涅耳波带片、X射线相衬光栅、金刚石光学器件、X射线微纳米分辨率测试卡、超透镜和中子光栅等，应用领域涵盖X射线科学研究、材料分析、医学成像等多个前沿方向。凭借独特的 Ir-线倍增技术，XRnanotech 可以制造分辨率可低至<10nm的菲涅耳波带片，并提供各种材料，如金，镍，硅（二氧化硅），铱，铬甚至金刚石。
众星联恒作为瑞士XRnanotech公司中国区的独家代理，为中国用户提供所有售前咨询，销售及售后服务。同时，众星联恒作为一家前沿EUV-X射线领域服务及解决方案提供商，目前已储备一定规模的EUV与X射线相关设备与核心部件库存，具备快速交付能力，以更好地服务我们的用户。同时我们创建了设施完善的X射线开放实验室，配备了多套先进的X射线光源系统、光学元件以及探测器，可支持包括X射线成像、相衬成像、衍射分析、荧光检测以及X射线源性能表征在内的多样化的测试、预研和论证工作。
我们是一支对于极紫外、X射线技术充满热情的团队，如果你有任何疑问想要和我们交流、探讨，不要犹豫，请直接联系我们。
