独家授权-激光驱动高亮EUV光源

13.5nm,极紫外光刻,高亮,高功率

型号: TEUS-S100、TEUS-S200、TEUS-S400

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产品介绍

TEUS-LPP 紧凑型激光驱动等离子体极紫外光源基于快速旋转液态金属靶,这种新型LPP靶结合了传统的碎片减缓技术,是清洁极紫外光源的最佳解决方案。基于其亮度高、洁净、能量抖动小等特点,非常适合大规模生产中基于 EUV 显微的掩模版检测等需要高亮度 EUV 光源的应用场景,或者小规模光刻生产与实验等应用方向。经过数台 TEUS 的交付,已经验证该光源的性能及稳定性。

特征优势

1将液滴碎片重定向远离输入(激光)和输出(EUV)窗口
2用于高重复率激光系统(高达1Mhz)的不受干扰的靶材表面
3由于靶材是连续的,所需的同步最小
4高亮度,高通量,优秀的空间稳定性
5极高的正常运行时间
6高占空比,交钥匙作业

规格参数

型号EUV收集角(sr)激光平均功率(W)脉宽(ns)重频(kHz)等离子体尺寸*(μm)亮度(W/mm2sr)EUV功率(mW)

收集镜**

寿命

TEUS-S1000.05
1001.5
25≤60
1105>1年
TEUS-S2002005022010>半年
TEUS-S40040010045020>半年

* : 定义为等离子强度分部1/e2的直径

**:收集镜为系统选配

典型应用

  • 掩膜及表面检测
  • 图形化掩膜检测(PMI)
  • 掩膜空间像检测(AIMS)
  • 空白掩膜版检测(MBI)
  • 材料科学
  • 晶圆检测
  • 极紫外扫描光刻工艺链中的极紫外光学器件检测

使用环境要求

型号供电功耗尺寸(长x宽x高)

重量(含激光部件)

洁净间级别水流速
TEUS-S1006.5 kW
1500x1000x1200 mm770kgISO7
10 L/min
TEUS-S2008.5 kW1500x1000x1200 mm770kgISO715 L/min
TEUS-S40010.5 kW

1500x1000x1200 mm

770kgISO725 L/min

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