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用于光化图形掩模版检测的LPP EUV光源

2024-01-06 15:13:09 Cavan

北京众星联恒科技有限公司

对于EUVL关键应用光化掩膜版检测来说,LPP光源至关重要。荷兰自成立以来,一直致力于激光驱动高亮EUV(LPP)光源的研发和制造,其独家技术-快速旋转液态金属靶(FRLMT)在全球范围内受到专利保护。经过数台的交付,该光源的性能及稳定性已经得到验证。

q非常荣幸与 开展技术合作,针对光化图案掩膜检测(APMI)应用,开发了可靠且符合行业标准的EUV光源,并成功地应用于光化图案掩膜检测ACTIS系统中。

TEUS-LPP 激光驱动等离子体极紫外光源采用高重频、高能量的纳秒激光轰击高速转动中的液态 Sn/In 合金,来产生高亮、洁净的极紫外光。基于其亮度高、稳定,极少碎屑、能量抖动小等特点,非常适合大规模生产中基于 EUV 显微的光化图形EUV掩模版检测等需要高亮度 EUV 光源的应用场景,或者小规模光刻生产与实验等应用方向。友好的操作界面及自动化控制,可以降低误操作风险,确保系统平稳、高效运行。

当前的TEUS产品系列包含:TEUS-S100、TEUS-S200和TEUS-S400。其中数字100、200和400分别指代驱动激光平均功率。

采用快速转动液态靶材设计及传统碎屑抑制技术

—获得洁净极紫外光源的终极方案

强激光与金属靶材的相互作用将会产生包括大颗粒、离子等多种碎屑污染物。当 Sn 等碎屑污染物在后端光路沉积的有效厚度达到 ~1.5nm 时,对 13.5nm 的 EUV 光的吸收率就已经高达 10%。因而,在光源、光路以及长期维护过程中,采取多种手段抑制碎屑的产生、沉积以及消除已沉积的污染物,对于科研以及大规模工业化生产中保持效率与稳定性尤为重要。

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荷兰 ISTEQ  Group坐落于埃因霍温的高科技园区,在开发和制造各种类型的尖端产品方面拥有广泛的专业技术与丰富的经验。ISTEQ Group 致力于为各种工业应用尤其是半导体、材料分析和光谱学应用开发广泛的现成解决方案,公司产品包括:激光驱动等离子体白光光源,DPP/LPP EUV光源、用于 X-ray/EUV/VUV 波段的定制化光谱仪及等离子体诊断设备。

北京众星联恒科技有限公司作为ISTEQ  Group EUV光源在中国区的授权独家代理,为中国客户提供所有相关产品的售前咨询,销售及售后服务。我司始终致力于为广大科研用户提供专业的 EUV、X 射线产品及解决方案。如果您有任何问题,欢迎联系我们进行交流和探讨。

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