会议预告 - 2023 Source Workshop + 同期EUVL及光源相关短期课程
由EUV Litho, Inc.组织，德国Fraunhofer Institute for Laser Technology, ILT、亚琛工业大学 (RWTH-Aachen University)以及EUV-IUCC联合举办的2023 Source Workshop 研讨会将在本月于德国亚琛举行。本届光源研讨会将重点关注与极紫外 (EUV) 和软 X 射线源相关的最新科学和技术发展。
本次Source Workshop研讨会前，EUV Litho, Inc.还组织有两场线上的短期课程，分别聚焦EUV Lithography及EUV and Soft X-Ray Sources。EUV Litho, Inc. 由 Vivek Bakshi 博士创立，是一家致力于通过咨询、研讨会和教育课程推广 EUV 光刻的组织，负责组织年度 EUVL 研讨会、EUV 和软 X 射线源国际研讨会以及全球 EUVL 短期课程。
我们的合作伙伴荷兰Isteq公司将深度参与本次研讨会。Mikhail Krivokorytov博士受邀出席，并将在Session 4B: Metrology Sources分会场作专题报告“EUV LPP light source based on fast rotating target-Target material variants and way to increase spectral brightness”。Alexander Tovstopyat博士以Poster形式参与交流。
同时，我们另一位伙伴，来自德国optiXfab公司的CEO -Torsten Feigl，也受邀出席了本次研讨会。他将担任第十分会场Optics and Metrology的主持人，并带来精彩报告，敬请期待。
About
关于会议
1. 2023 Source Workshop
会议时间：2023年10月23日至25日
会议形式：线下
2. 关于短期课程
会议时间：2023年10月21日至22日
会议形式：线下
EUV Lithography Short Course
本课程为与会者提供EUV光刻的基本原理，状态和技术挑战的概述。
EUV & Soft X-Ray Sources - Source Short Course
本课程将概述与EUVL和等离子体源相关的底层物理知识。课程将由David Attwood教授(加州大学伯克利分校)、Gerry O 'Sullivan教授(加州大学都柏林分校)和John Sheil教授(阿姆斯特丹自由大学和ARCNL)授课。
10月相关会议
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023
2 - 5 October 2023 | Monterey Conv. Ctr., Steinbeck 3
荷兰 ISTEQ Group坐落于埃因霍温的高科技园区，在开发和制造各种类型的尖端产品方面拥有广泛的专业技术与丰富的经验。ISTEQ Group 致力于为各种工业应用尤其是半导体、材料分析和光谱学应用开发广泛的现成解决方案，公司产品包括：激光驱动等离子体白光光源，DPP/LPP EUV光源、用于 X-ray/EUV/VUV 波段的定制化光谱仪及等离子体诊断设备。
德国optiX fab是Fraunhofer IOF孵化的附属（衍生）公司，成立于2012年，旨在商业化Fraunhofer IOF的EUV光学研究和开发活动，致力于设计，开发和制造各类EUV镜。optiX fab为全球芯片制造商、EUV工具和光源制造商以及研究所、大学、同步辐射和全球的EUV研究客户提供定制的用于13.5nm EUV光刻及整个XUV/软硬X光光谱范围内的多层膜和掠入射光学器件。
北京众星联恒科技有限公司为中国客户提供所有相关产品的售前咨询，销售及售后服务。我司始终致力于为广大科研用户提供专业的 EUV、X 射线产品及解决方案。如果您有任何问题，欢迎联系我们进行交流和探讨。
